Gebraucht KLA / TENCOR C2C #9187559 zu verkaufen

KLA/TENCOR C2C (Critical Dimension and Critical Overlay Metrology) ist eine dedizierte Lösung für automatisierte Wafertests und Messtechnik. Es soll dem Hersteller detaillierte Informationen über die physikalische Struktur von Halbleiterbauelementen (Wafern) liefern. Es eignet sich sowohl für die Massenproduktion als auch für die Prozessentwicklung. KLA C2C-Geräte verwenden zwei fortschrittliche Technologien in Kombination für Wafertests und Messtechnik: Streuung und Rasterelektronenmikroskopie (CD-SEM). Die Streuung dient zur Messung der kritischen Abmessungen der Strukturen auf der Oberfläche des Wafers. Es verwendet eine Kombination aus einem Laser und einem Photodetektor, um Veränderungen im rückstreuenden Licht aus dem Wafer zu detektieren. Diese Technik eignet sich insbesondere zur Messung von Feinteilungsmustern auf dem Wafer und zur Schätzung der Platzierungsgenauigkeit einzelner Strukturen, wodurch dem Benutzer ein genaues Bild der Struktur des Wafers bereitgestellt wird. Die zweite Technologie des Systems ist CD-SEM. Diese Technik verwendet ein Rasterelektronenmikroskop, um das Querschnittsprofil der Strukturen auf dem Wafer zu messen. Dies geschieht durch Fokussierung eines Elektronenstrahls auf eine kleine Fläche der Probe, wobei ein hochauflösendes Bild bereitgestellt wird, das zur Bestimmung der genauen Abmessungen der Strukturen analysiert wird. Dies ist nützlich, um Toleranzen zu ermitteln und mögliche Prozessschwankungen zwischen vielen Wafern zu überwachen. TENCOR C2C-Einheit bietet auch automatisierte Overlay-Messtechnik-Messungen mit kritischen Dimensionen (CD) und Overlay-Missionen. Die Mission ermöglicht es dem Benutzer, die Leistung von Overlay-Strukturen in-line zu überwachen und dem Benutzer eine vollständige Sichtbarkeit der Ausrichtung und der kritischen Overlay-Leistung zu bieten. Dies ist für jeden Hersteller unerlässlich, der Hochleistungs-, konsistente und zuverlässige Produkte herstellen muss. Die Kombination aus Streuung und CD-SEM bietet dem Anwender zudem ein Fehlerbudget, das für die Prozesssteuerung und statistische Prozesssteuerung in Produktionsumgebungen verwendet werden kann. Diese Steigerung der Prozesseffizienz kann langfristig die Produktionskosten und das Risiko eines Ausfalls senken. Schließlich bietet C2C-Maschine detaillierte Analyse der Musterung auf der Waferoberfläche, um Gleichmäßigkeit und eine hohe Qualität der Produktion zu gewährleisten. Dies umfasst die Analyse von isolierten Merkmalen, Linien und Leerzeichen; isolierte KEs auf mehreren Ebenen sowie KEs mit komplexen Formen. Insgesamt ist KLA/TENCOR C2C eine fortschrittliche Lösung, die dem Hersteller detaillierte Informationen über die physikalische Struktur von Halbleiterbauelementen (Wafern) liefern soll. Es eignet sich sowohl für die Massenproduktion als auch für die Prozessentwicklung und bietet eine optimale Kombination von Techniken zur Bestimmung kritischer Abmessungen und Überlagerungen. Als solches ist es ein leistungsfähiges Werkzeug zur Verbesserung der Qualität, Effizienz und Wirtschaftlichkeit von Halbleiterproduktionsprozessen.