Gebraucht KLA / TENCOR Candela CS10 #9186184 zu verkaufen

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ID: 9186184
Weinlese: 2012
Optical surface analyzer Dual-laser optical X-Beam technology (2) Laser paths / (4) Independent wafer surface detection techniques Particle sensitivity on polished silicon wafers: <0.08 Micron Exceptional sensitivity to micro scratches: Automatic wafer surface inspection Defect detection / Classification: 2"-12" Transparent and opaque wafers Kit, 6" Software version: 6.8 2012 vintage.
KLA/TENCOR Candela CS10 Wafer-Prüf- und Messtechnik verwendet fortschrittliche Bildgebungs- und Messtechnik, um Wafer zu inspizieren, bevor sie für die Herstellung elektronischer Geräte verwendet werden. Dieses System nutzt 5-Achsen-Gelenkstufen, um die vollständige Wafer-Inspektion mit beengten Be- und Entladebereichen zu unterstützen. Das CS10 verfügt über einen neuartigen horizontalen Strahlengang, der die Bedienerfläche reduziert und gleichzeitig erweiterte Ansichtsfelder zur Verbesserung der globalen Fehlererkennung bereitstellt. Seine erweiterte Optik-Einheit nutzt Schritt-Scan-Fähigkeiten, um speziell brechende flache Proben mit unübertroffenem Fokus und Auflösung zu scannen. Es verfügt auch über 3k x 2k Bildaufnahmeauflösung und erweiterte Bild-Upscaling-Technologie, die noch schärfere Bilder gewährleistet. Das CS10 ist mit modernster Bildgebungs- und Messtechnik konfiguriert und bietet mehrere Sensor- und Analysekonfigurationen in einem einzigen Instrument. Es ist kalibriert und in der Lage, einen weiten Bereich von Signalpegeln von 0,1 nm bis 80 m zu messen und eine Vielzahl von Materialien unterschiedlicher Dicke auszuwerten, z.B. Gerätestrukturen mit hohem Aspektverhältnis und verdünnte Wafer. Das CS10 ist mit verschiedenen Prozesschemien und einer umfangreichen Bibliothek automatisierter Messalgorithmen kompatibel. Es verfügt über materialadaptive Technologien für verschiedene Wafertypen sowie Waferformen und -größen im Bereich von 200 bis 800 Millimeter. Das CS10 bietet umfangreiche Optionen für die Wafer-Sondierung von berührungslosen optischen Messungen bis hin zu kontaktlosen Sonden wie Acoustic Micro Imagers, Eddy Current, Laser Displacement Mapping und Defect Metrology. Es ist mit einer Metrologie-Tool-Suite für Fehlermesstechnik und Halbleiter-Prozesssteuerungsanalyse integriert. Das CS10 ist auch flexibel genug, um in einer bestehenden Produktionsumgebung ohne spezielle Verkabelung eingebaut zu werden, und seine erweiterten Datenverwaltungsfunktionen ermöglichen eine sichere Speicherung von Kundendaten und eine enge Maschinensicherheit. Es ist zuverlässig und einfach zu bedienen, mit umfassender Bedienerschulung und technischem Support zur Verfügung. Insgesamt ist KLA CANDELA CS-10 ein zuverlässiges und vielseitiges Wafer-Prüf- und Messtechnikwerkzeug, das die neueste bildgebende und messtechnische Technologie bietet, um eine qualitativ hochwertige und genaue Inspektion verschiedener Wafertypen und -größen zu gewährleisten. Es ist eine wertvolle Lösung für elektronische Gerätehersteller, die eine schnelle und präzise Fehlererkennung kostengünstig erfordern.
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