Gebraucht KLA / TENCOR Candela CS10R #9372904 zu verkaufen

KLA/TENCOR Candela CS10R ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die für Präzisionswafer-Tests, Messtechnik und Charakterisierung verwendet wird. Das System soll Prozessingenieure mit Werkzeug- und Bandprozessen, Höhenkontrolle, Formmessung und Fehleranalyse in Halbleiterfertigungslinien unterstützen. Es kann für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, einschließlich Wafer-Mapping, Fehlererkennung und Partikelanalyse. Das Gerät umfasst eine Sichtprüfmaschine, ein optisches Mikroskop und ein Wafer-Kamerawerkzeug zur Erkennung von Defekten und Partikeln auf einem Halbleiterwafer. Das Vision Asset wurde entwickelt, um Hochgeschwindigkeitsanalysen zu ermöglichen, die selbst kleinste Fehler schnell erkennen und kategorisieren. Das optische Mikroskop unterstützt die direkte Abbildung von Proben und ermöglicht eine hochauflösende Ansicht eines Wafers. Dies ermöglicht eine effektive Detektion sowohl der Oberflächentopographie als auch der strukturellen Merkmale. Schließlich kann die Waferkamera Weitblickaufnahmen auf die gesamte Waferoberfläche machen, wodurch qualitativ hochwertige Bilder zur Fehlererkennung und -analyse verwendet werden können. Das Modell ist integriert mit modernster Software zur Analyse, bietet Echtzeit-Prozessüberwachung, automatisierte Fehlerkategorisierung und Datenanalyse. Auf diese Weise können Prozessingenieure Prozessprobleme schnell erkennen und mögliche Probleme ermitteln, sodass sie notwendige Anpassungen am Prozess vornehmen können, um Ertrag und Geräteleistung zu verbessern. Darüber hinaus bietet die Anlage eine Reihe automatisierter Handhabungsprozesse. Dazu gehören ein automatisches Wafer-Mapping-System, das die Messungen eines Wafers verfolgen und mögliche Fehler abbilden kann, und eine automatisierte Wafer-Transfereinheit, die Wafer mit einem Roboterarm aufnimmt. KLA Candela CS10R bietet eine leistungsstarke Kombination aus Funktionen und Automatisierung für Wafertests und Messtechnik. Es ermöglicht eine schnelle und genaue Fehlererkennung und -analyse sowie automatisierte Handhabungs- und Mappingprozesse. Dies hilft Prozessingenieuren, Probleme mit einer Halbleiterproduktionslinie zu identifizieren und zu beheben, was zu einer verbesserten Geräteleistung und -erträgen führt.