Gebraucht KLA / TENCOR CI-T53P #9254920 zu verkaufen

KLA/TENCOR CI-T53P ist eine fortschrittliche automatisierte Wafer-Prüf- und Messtechnik, die zur Messung, Inspektion und Analyse einer Vielzahl von Parametern auf Silizium-Wafern verwendet wird. Es kombiniert die neuesten Messtechnologien, anspruchsvolle Bewegungssteuerungen und leistungsstarke Prozesssteuerungswerkzeuge, um präzise und reproduzierbare Daten für Halbleiterbauelementherstellungsprozesse bereitzustellen. KLA CI-T53P System bietet zwei große Funktionen für die Waferanalyse: Messtechnik und Tests. Seine messtechnischen Fähigkeiten ermöglichen es, mehrere Parameter in einem einzigen Wafer zu testen, wie Dicke, Bogen/Kette, Breite und Overlay. Das Gerät ist in der Lage, Overlay innerhalb von 0,25 Mikrometer zu messen, was es zu einer idealen Lösung für die Überwachung der Overlay-Präzision in fortschrittlichen Gerätedesigns macht. Darüber hinaus können TENCOR- CI-T53P Wafer auf verschiedene mechanische Parameter wie Ebenheit, Oberflächenrauhigkeit und Partikelverunreinigung analysieren. CI-T53P Maschine ist auch mit einer ganzen Reihe von Tests ausgestattet, die während eines einzigen Zyklus durchgeführt werden können. Ein solcher Test ist die Fotodefektprüfung (PDI), die den Ort, die Größe und die Form der Photolithographiemuster auf dem Wafer genau misst. Ein weiteres Beispiel ist die kritische Dimensionsbildgebung (CDI), die zur genauen Messung von Feinlinienbreiten und anderen Gerätemerkmalen verwendet werden kann. Diese Tests tragen dazu bei, dass die hergestellten Wafer fehlerfrei sind und sich die Geräteeigenschaften in Grenzen halten. Das KLA/TENCOR CI-T53P Tool wurde entwickelt, um den Betreibern präzise und reproduzierbare Daten zur Verfügung zu stellen. Dies wird durch eine intuitive Asset-Oberfläche ermöglicht, die die Integration verschiedener Genauigkeiten bei der Verwendung verschiedener Testwerkzeuge ermöglicht. Darüber hinaus integriert KLA CI-T53P fortschrittliche Tools zur statistischen Prozesssteuerung (SPC), um sicherzustellen, dass die Ergebnisse jedes Tests im gewünschten Bereich liegen. Dies ermöglicht eine breite Palette von Möglichkeiten zur Rückverfolgbarkeit, vorausschauenden Analyse und Wartung von Waferprozessen. Insgesamt ist TENCOR CI-T53P ein leistungsfähiges Wafer-Test- und Metrologiemodell, das entwickelt wurde, um überlegene Genauigkeit, Präzision und reproduzierbare Daten im Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen bereitzustellen. Seine erweiterten Fähigkeiten ermöglichen es den Betreibern, die verschiedenen Parameter des Wafertests effektiver zu verwalten und zu steuern.