Gebraucht KLA / TENCOR F5 #9214704 zu verkaufen

KLA/TENCOR F5 ist eine Atomkraft-Mikroskop-basierte Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für die Herstellung und Entwicklung von Halbleiterbauelementen. Das System bietet eine robuste Plattform zur Hochdurchsatzprüfung und Charakterisierung einer Reihe von Wafergeweben und Oberflächen. Es bietet hochauflösende, wiederholbare und berührungslose Messungen von Wafereigenschaften wie Dicke, Oberflächentopographie, Korngröße und Diffusion. Die integrierten Softwarefunktionen des Geräts bieten automatisierte Messanalysen und umfassende Datenverwaltungs- und Visualisierungsfunktionen. KLA F5 Maschine besteht aus mehreren Komponenten, einschließlich einer integrierten Plattform-Hardware, AFM-Sensor, und Steuerungssoftware. Die integrierte Hardware besteht aus AFM-Kopf, XY-Scanstufe und präziser z-Höhenerfassung. Die erweiterten AFM-Sensorik-Fähigkeiten des Tools ermöglichen es, transparente und undurchsichtige Oberflächen zu scannen und bieten komplexe, hochauflösende Bilder von Waferfunktionen mit hoher Genauigkeit. Die XY-Scanstufe ermöglicht es dem Asset, große Bereiche des Wafers schnell zu durchqueren, während die z-Höhenerfassung den AFM-Kopf genau positioniert, um Daten zu erfassen. Das integrierte Software-Steuerungsprogramm des Modells bietet umfassende Automatisierungs- und Datenverwaltungsfunktionen. Die Software ermöglicht es Anwendern, komplexe Tests einfach zu definieren, die Erfassung hoch reproduzierbarer Daten zu automatisieren und große Datensätze für einen robusten Vergleich und eine statistische Analyse zu verwalten. Darüber hinaus bietet es leistungsstarke Visualisierungstools zur Optimierung des Testdesigns, zur Auswertung von Daten und Berichtsergebnissen. TENCOR F5-Geräte eignen sich gut zur Analyse von Halbleiterwafergeweben und -prozessen, wie Photoresist-Strukturierung, dielektrisches Oxidätzen und Diffusion. Es ist auch in der Lage, Herstellungsschritte wie Lithographie, Filmabscheidung und Maskenausrichtung zu überwachen. Damit ist sie eine ideale Lösung für die Prozessbewertung und Fehleranalyse. Das System bietet hochauflösende Bildgebungsfunktionen und eine wiederholbare Datenerfassung, die eine zuverlässige Erkennung und Quantifizierung von Fehlern auf einem Wafer ermöglicht und eine optimierte Prozesssteuerung ermöglicht. Mit seinen automatisierten Datenerfassungs- und Analysefunktionen können Fehler schnell erkannt und charakterisiert und die Auswirkungen von Prozessvariationen oder Konstruktionsänderungen analysiert werden.