Gebraucht KLA / TENCOR FLX-2908 #9016283 zu verkaufen

KLA/TENCOR FLX-2908 wafer testing and metrology equipment ist eine integrierte, hochpräzise Plattform, die Ingenieuren und Wissenschaftlern hilft, die physikalischen Eigenschaften von Wafern mit schnellen und genauen Ergebnissen zu charakterisieren. Die leistungsstarke proprietäre Optik und Computersoftware des Systems ermöglicht es, mehrere Parameter wie Topographie an der Vorder- und Rückseite, Oberflächenmorphologie, Waferkette, Widerstand, Reflektivität oder Filmdicke innerhalb von 1 Mikron zu messen. Es kombiniert Messtechnik, Fehlerinspektion und Ausrichtung der Wafer, um äußerst zuverlässige Ergebnisse mit schnellen Durchlaufzeiten für eine Vielzahl von Anwendungen zu liefern. KLA FLX-2908 nutzt eine lichtbasierte Inspektions- und Bildgebungseinheit, um Defekte in der Waferoberfläche zu erkennen. Diese Maschine verwendet Strahllenkung, so dass jeder gezielte Punkt auf dem Wafer durch drei oder mehr verschiedene Beleuchtungswinkel verschmolzen werden kann, was ein einzigartiges Bild des Bereichs bildet. Seine proprietäre bildgebende Technologie verarbeitet dann die rohen Arrays zu aussagekräftigen physikalischen Daten, um eine Vielzahl von Oberflächeneigenschaften zu quantifizieren, von detaillierten Topographiekarten über Gesamtlinienzählkarten (Total Line Count, TLC) der defekten Regionen bis hin zu Widerstandskarten von TLC identifizierten Regionen. Das Werkzeug ist auch in der Lage, Waferkett- und Dickenmessungen an der Vorder- oder Rückseite des Substrats durchzuführen. Seine Wellenfrontanalysetechnologie ist in der Lage, den genauen Grad der Substratkrümmung zu bestimmen, was für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente wichtig ist. TENCOR FLX 2908 integriert auch Metrologie und Fehlererkennung in einem einzigen Asset, so dass Benutzer mehrere Eigenschaften des gleichen Wafers gleichzeitig messen können, was eine umfassende Charakterisierung der physikalischen Eigenschaften des Substrats ermöglicht. Seine 24/7-Modellüberwachungsfunktion erkennt potenzielle Probleme, bevor sie auftreten, und kann dazu beitragen, die Betriebszeit zu erhöhen und Ausfallzeiten der Ausrüstung zu reduzieren. FLX-2908 ist perfekt für Ingenieure und Wissenschaftler, die zuverlässige und schnelle Charakterisierung der physikalischen Eigenschaften des Wafers benötigen. Seine erweiterten Optik- und Bildverarbeitungsfunktionen bieten Anwendern hochgenaue Ergebnisse in einer Vielzahl von Anwendungen, während seine Integration von Messtechnik und Fehlererkennung eine umfassende Charakterisierung der physikalischen Eigenschaften eines einzelnen Wafers ermöglicht.