Gebraucht KLA / TENCOR FLX-2908 #9199147 zu verkaufen
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ID: 9199147
Thin film stress measurement system, 3"-8"
Handler type: Wafer
Dual wavelength scanning
Room temperature: 900°C
Scan length: Up to 200 mm
PC With configuration:
Pentium processor: 133 MHz
RAM: 16 MB
Hard drive: 2.0 GB
SVGA Monitor
Hardware: Signal light tower
(2) User manuals
Accessories:
150 mm Certified wafer pair
200 mm Certified wafer pair
SECS/GEM Interface user manual
Power source: 208-240V, 50/60 Hz
CE Marked
2001 vintage.
KLA/TENCOR FLX-2908 Wafer Testing and Metrology Equipment bietet eine komplette End-to-End-Lösung für Messtechnik und Prozesssteuerung. KLA FLX-2908 integriert fortschrittliche telezentrische Messtechnik-Funktionen mit einer leistungsstarken Suite von Prozesssteuerungssoftware. Systeme können für eine Vielzahl von Kundenprozessanforderungen wie CD, Morphologie, Topographie, Reflektivität und Mustermessungen konfiguriert werden. Mit einer einzigartigen Mischung aus Genauigkeit und Geschwindigkeit kann TENCOR FLX 2908 die anspruchsvollsten Ertragsanforderungen erfüllen. Das Wafer-Level-Testsystem, das von einer High-End-PC-Plattform angetrieben wird, verfügt über einen integrierten 16-Kanal-optischen Kopf und Hochleistungs-Weißlicht-Bildquellen. Es umfasst eine variable Anzahl von Vision-Sub-Systemen und ein oder mehrere hochgenaue telezentrische Messtechnik-Systeme, einschließlich einer Vision-Kanal-Selektor für schnelles Umschalten zwischen Vision-Systemen. Zusätzlich gibt es ein integriertes Kalibrierwerkzeug zur Oberflächenprüfung, um eine maximale Einheitengenauigkeit zu gewährleisten. KLA FLX 2908 verfügt über eine gut geerdete PC-Maschine, mit der der Benutzer das Tool fernsteuern und überwachen kann, einschließlich der Wartung von Vermögenswerten. Ebenfalls enthalten sind ein vollautomatischer Wafer-Test-Handler, ein optischer Kopf, ein Vision-Sub-Modell, eine Metrologie-Software, eine Testautomatisierungssoftware und eine Diagnosesuite. TENCOR FLX-2908 kann bis zu 16 Wafer in Durchmessergrößen von 8 bis 200 Millimetern aufnehmen. Die Ausrüstung ist mit fortschrittlichen messtechnischen Möglichkeiten zur Erfassung, Bildgebung und Materialcharakterisierung ausgestattet. Es kann Bildqualitätsmessungen wie Topographie und Fehlerabbildung zur Verfügung stellen, um den höchsten Ertrag zu gewährleisten und gleichzeitig die genauesten Ergebnisse zu liefern. KLA/TENCOR FLX 2908 bietet auch Funktionen zur Erhöhung der Systemgeschwindigkeit und Minimierung der Testzeit. Ein High-End-Abtastbeschleuniger nutzt eine Mehrkanalarchitektur mit innovativen Abtastalgorithmen; die den Durchsatz drastisch verbessern, ohne auf Genauigkeit zu verzichten. Dies ermöglicht eine präzise Messung verschiedener physikalischer Eigenschaften, von Partikeldefekten bis hin zu Oberflächenverformungseigenschaften. Darüber hinaus liefern hochpräzise elektrostatische Sensoren genaue Messungen für alle Testwafer. Erweiterte messtechnische Fähigkeiten, Einheitengeschwindigkeit und Genauigkeiten bis zu 1 Nanometer alle kombinieren, um die Maschine sehr zuverlässig und effizient zu machen. Darüber hinaus ermöglichen seine erweiterten Funktionen, einschließlich intuitiver GUI-Software und einer Bedienung mit einem Klick, eine einfache und mühelose Bedienung. FLX-2908 ist eine ausgezeichnete Wahl für jeden Kunden, der nach einem kompletten Wafer-Test- und Messtechnik-Tool sucht.
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