Gebraucht KLA / TENCOR HRP 340 #293777442 zu verkaufen

KLA/TENCOR HRP 340 Wafer Testing and Metrology Equipment wurde entwickelt, um automatisierte, präzise und zuverlässige Ergebnisse für Wafertests und -messungen bereitzustellen. Das System bietet eine breite Palette von Funktionen wie Vollfeld-Bildgebung, Photomasken-Defekt-Messtechnik, kritische Dimension (CD) und Ätztiefenmessung, Over-Etch-CD-Analyse und ultra-hochpräzise telezentrische Beobachtung. KLA HRP 340 ist mit einem 25X telezentrischen Stereomikroskop, 6-Zoll-Laserinterferometer und einer motorisierten x, y, z-Stufe ausgestattet, die bis zu vier Wafer gleichzeitig in einer geschlossenen Inspektionsumgebung unterstützen kann. Es bietet den höchsten Dynamikbereich jeder verfügbaren Wafer-Prüfeinheit, und seine variable Vergrößerung ermöglicht genaue Messungen im Nanometerbereich. Herzstück der TENCOR HRP 340 ist die leistungsstarke bildgebende und messtechnische Maschine. Es verwendet eine 8-Wege-Bildverarbeitungspipeline, um eine schnelle Analyse komplexer Defekte zu ermöglichen, mit Nah-Infrarot (NIR) -Bildgebungs- und Messfähigkeiten für erhöhte Schärfentiefe. Auf diese Weise kann HRP 340 Photomasken-Anomalien wie Nadellöcher und Fremdpartikel schnell analysieren und die Abmessungen mehrerer Defektstrukturen, einschließlich Kontaktlöcher, Gräben und Linienkantenrauhigkeit (LER), identifizieren und genau messen. Die fortschrittliche Software der Maschine umfasst CD/Critical Dimension Metrologie-Tools wie Kontur, Linienprofile, Isolinen und Planarität, um präzise Messungen zu gewährleisten. Es bietet auch hochauflösende, automatisierte Funktionen zur Musteranpassung und Anomaliefindung, die es ideal für die Partikeldetektion und Messungen mit hohem Durchsatz machen. Zusätzlich zu diesen Funktionen verfügt KLA/TENCOR HRP 340 über Ein-Klick-Wafer-Ausrichtung und Rotationskompensation Fähigkeiten, so dass Bediener schnell und genau neu positionieren und Wafer messen, ohne wertvolle Zeit oder Ressourcen zu verschwenden. Es ist auch mit einem Autofokus-Modul ausgestattet, das eine optimale Bildqualität gewährleistet und gleichzeitig das Risiko einer Fehlausrichtung reduziert. KLA HRP 340 entspricht den SEMI und SEMI Standards und wurde erfolgreich für die 3D-Oberflächenprofilierung und Linienbreitenmessung in der Halbleiterindustrie eingesetzt. Insgesamt ist das TENCOR HRP 340 Wafer Testing and Metrology Tool eine ideale Lösung für die automatische Wafer-Inspektion und bietet eine umfassende und leistungsstarke Lösung für genaue und zuverlässige Wafer-Tests und -Messungen.