Gebraucht KLA / TENCOR HRP & P Series #293597081 zu verkaufen

Die KLA/TENCOR HRP&P Serie ist ein Wafertest- und Messtechnik-System, das einen beispiellosen Durchsatz und Zuverlässigkeit bietet. Die KLA HRP&P Serie wurde entwickelt, um Prozesseffekte auf kritischen Schichten wie Kontakt, Gate und Metall auf Waferebene zu messen und zu korrigieren. Die NVM-Schicht (Non-Volatile Memory) ist besonders kritisch, da sie die ultimative Leistung der Wafer-Fertigung definiert. Die TENCOR HRP&P Serie nutzt modernste AutoSTAR™ optische und Elektronenstrahlmesstechnik für extrem präzise NVM-Schichtmessungen und -bewertungen. Die SmartVue™ Bildfehlererkennungswerkzeuge ermöglichen eine zuverlässige Fehlererkennung und -ortung. Die HRP&P Serie ist mit einer maximalen Wafergröße von 300mm sowie mehreren Messsensoren konfiguriert, die jeweils unterschiedliche anwendungsspezifische Bewegungen und Gerätebereiche aufweisen. Die optische Messtechnik nutzt hochdichtes Scannen und mehrstufiges Zoomen, um eine detaillierte Fehlerinspektion, Charakterisierung und Klassifizierung zu gewährleisten. Die Elektronenstrahlmesstechnik der KLA/TENCOR HRP&P Serie bietet eine hochauflösende, wiederholbare und einstellbare automatisierte Abtastung zur detaillierten Analyse der Stapel- und Schichtdicke-Integrität. Darüber hinaus bietet die patentierte High-Accuracy Die-to- Die™-Funktion der KLA HRP & P-Serie eine schnelle und genaue Dünnschichtdickenmessung auf Waferebene mit Sub-Nanometer-Genauigkeit. Dadurch wird sichergestellt, dass kritische Dünnschichtschichten den Prozessvorgaben entsprechen. Die Systeme der TENCOR HRP&P Serie bieten einen hohen Maskendurchsatz mit maximal 800nm pro Sekunde für die Stempelmessung, was die gesamte Messzykluszeit drastisch reduziert. Systeme der HRP & P-Serie werden in fortschrittlichen messtechnischen Anwendungen wie Schaltungsdesign, fortschrittlicher Halbleiterprozesscharakterisierung und -entwicklung, 3D-Integration, NTI/NTIP-Mapping und anderen eingesetzt. KLA/TENCOR HRP&P Serie bieten überlegene Stabilität, Leistung, Zuverlässigkeit und Genauigkeit, um die strengsten messtechnischen Anforderungen und prozesskritischen Schichten zu erfüllen. Es bietet branchenführenden Herstellern den höchsten Probendurchsatz und kostengünstigen Betrieb und ist damit eine ideale Plattform für die Produktionssteuerung und Überwachung von Halbleiterwaferherstellungsprozessen.