Gebraucht KLA / TENCOR LMS IPRO5 #9163708 zu verkaufen

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ID: 9163708
Weinlese: 2012
CD Metrology system Photomask registration 0.25 inch photomask and EUV masks Static positional repeatability: 3s (Short therm: 0.5 nm) Dynamic positional repeatability: 99.7% limit (Long term: 0.8 nm) Positional accuracy: 99/7% limit (Long term): 1.0 nm Light mod: Reflective and transmitted Measurement principle: Edge detection of parallel edges Center of Gravity algorithm Pattern centrality measurement capability Illumination source wavelength: 266 nm Objective lens: 80x, NA 0.80 Working distance: 6.9 mm Stage laser positioning system: 0.15 nm (LAMDA / 4096) Wavelength compensation: ETALON Field of view: 22.5 microns by 22.5 microns Handing: RSB 200 SMIF input / output Mask stocker capacity: 2 x 4 6025 reticles Software: MS Windows 7 KLA Job processor KLA LMSCOrr KLA Deva KLA CD Calib KLA System monitor KLA LMSASCII KLA GEM Module 2012 vintage.
KLA/TENCOR LMS IPRO5 ist eine leistungsfähige Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die die Produktivität der Fertigung und die Gleichmäßigkeit der Prozesse verbessert. Es verfügt über hochgenaue Messungen und zuverlässigen Betrieb, so dass es ideal für Unternehmen in der Halbleiterindustrie. Das System verfügt über eine leistungsstarke Softwareplattform, die eine automatische Testdatenanalyse und erweiterte Prozesssteuerung ermöglicht. Die Einheit besteht aus mehreren Komponenten, die zusammenarbeiten, um die Eigenschaften bestimmter Wafer genau zu messen. Sein optisches Modul ermöglicht die automatische Messung der kritischen Abmessungen jedes Wafers. Die Wagenmodule sind dafür verantwortlich, das richtige Werkzeug an den Wafer zu liefern. Der Chipsatz der Maschine besteht aus mehreren anspruchsvollen Chips, die die Logik, Motorsteuerung und digitale Signale liefern, die zur Steuerung der Werkzeuge erforderlich sind. Die integrierte Messtechnik des Tools erfasst und analysiert eine Vielzahl von Testdaten wie IQ-, OQ- und PQ-Metriken ohne manuelle Programmierung. Es verfügt auch über spiegelnde Oberflächenreflexion, die hilft, die Genauigkeit und Empfindlichkeit der Messungen zu verbessern. Darüber hinaus trägt die Auto-Focus-Fähigkeit dazu bei, den manuellen Eingriff zu reduzieren und so die Prozesssicherheit zu verbessern. Das Asset verfügt zudem über eine benutzerfreundliche, intuitive Software-Benutzeroberfläche. Es ermöglicht dem Bediener, seine Testparameter einfach einzustellen, das Messmodell zu kalibrieren und Daten zu analysieren. Dieses intuitive Benutzererlebnis ermöglicht es auch den unerfahrensten Bedienern, schnell auf den neuesten Stand zu kommen. KLA LMS IPRO5 ist flexibel und skalierbar, um den Anforderungen der modernen Halbleiterindustrie gerecht zu werden. Es bietet eine breite Palette von Prozessfähigkeiten und fortschrittlichen messtechnischen Lösungen. Das System ist zudem sehr zuverlässig und wartungsfreundlich. Darüber hinaus ermöglicht sein modularer Aufbau Upgrades. All diese Eigenschaften machen es zur perfekten Wafer-Test- und Messtechnik-Einheit zur Verbesserung der Produktivität und der Prozessgleichförmigkeit.
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