Gebraucht KLA / TENCOR Omnimap RS75 / TC #9159115 zu verkaufen

KLA/TENCOR Omnimap RS75/TC ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um Halbleiterscheiben auf Nanometerebene zu analysieren und hochgenaue Ergebnisse für die Prozessentwicklung, Prozessoptimierung und Fehlererkennung zu liefern. Das RS75/TC-System ist in der Lage, ultrahohe Genauigkeit, hohe Geschwindigkeit und Multi-Oberflächen-Bildgebung zu sammeln und bereitzustellen. Es verwendet erweiterte Optik und hochpräzise Stufen, um Bilder mit automatischer Fokussierung zu erstellen, und erfasst diese Bilder dann mit einem CMOS-Detektor. Dies ermöglicht eine präzise Messung von Oberflächenprofilen, Defekten, Partikelzahlen und verschiedenen anderen Eigenschaften des Wafers. Das Gerät verfügt über eine Hochgeschwindigkeitsstufe, um die Proben schnell über den bildgebenden Bereich zu bewegen, was einen hohen Durchsatz und realistische Messungen ermöglicht. Es verfügt auch über eine intuitive Touchscreen-Oberfläche, die es Anwendern leicht macht, schnell die richtigen Messparameter einzustellen. Die Maschine ist auch hochautomatisiert, so dass sie einfach zu bedienen ist und schnelle Ergebnisse liefert. Darüber hinaus ist das RS75/TC-Werkzeug mit einem ultrahochempfindlichen Messtechnik-Detektor (UHSM) ausgestattet, der Änderungen in der Filmdicke, Zusammensetzung und anderen physikalischen Eigenschaften der Probe erkennen kann. Dieser Detektor bietet auch eine leistungsstarke Reihe von analytischen Tools, um die Prozessoptimierung zu erleichtern. Darüber hinaus verfügt das Asset über eine exklusive bildgebende Software-Suite KLA Automap, die zur schnellen Beurteilung von Probeoberflächenprofilen konzipiert ist. Es hat die Fähigkeit, Steigungen, Rauheit und Abschnitte zu messen, die zur Bestimmung der Prozessbedingungen verwendet werden können. Weitere Merkmale dieser Software sind die Unterstützung für Vorlagendesign und Benutzeränderungen für präzisere Messungen. Schließlich ist KLA Omnimap RS75/TC für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen konzipiert, wie zum Beispiel für die Abbildung von Mikromorphologien, Oberflächenfehler, Schwachstellen-Identifikationen, Fehlercharakterisierung und vieles mehr. Das Gerät eignet sich perfekt für die Prozessentwicklung, Prozessoptimierung und Fehlererkennung und bietet Messungen mit hoher Genauigkeit, hoher Geschwindigkeit und hohem Durchsatz.