Gebraucht KLA / TENCOR P1 #9386653 zu verkaufen
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KLA/TENCOR P1 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik von KLA Corporation, die entwickelt wurde, um fortschrittliche Präzisionsmessungen und Fehlererkennung für eine breite Palette von Wafern und Substraten bereitzustellen. Es verwendet sowohl optische Mikroskopie als auch hochauflösende Bildgebungstechnologie für hochpräzise Sub-Mikron-Messungen. Das System ist in der Lage, Wafergrößen zwischen 2-7,5 Zoll (50,8 mm - 190,5 mm) mit einer Dicke von 0,5 bis 9,5 mm zu unterstützen. Das Gerät wurde entwickelt, um die Abmessungen von Defekten auf einem Wafer mit Hilfe von Hellfeld- und Dunkelfeldmikroskopiebildern zu erkennen und zu messen. Dadurch können selbst extrem kleine Defekte, wie Partikel, Kratzer, Gruben und Abscheidungsmaterial, erkannt werden. Es ist auch mit hochauflösender Bildgebungsfähigkeit ausgestattet, die Tieftauchanalysen von Wafern ermöglicht. Dieses Merkmal erhöht die Fähigkeit der Maschine, sowohl Prototypen als auch ertragsarme Defekte aufzudecken und zu charakterisieren. Das Werkzeug ist ferner mit einem Waferhaltemechanismus ausgestattet, der für den Schutz des Wafers bei der Messung ausgelegt ist. Es ist mit einer digitalen Kippstufe ausgestattet, die präzise Winkel und präzise Messungen des Wafers und seiner Defekte ermöglicht. Das Asset bietet auch Automatisierungsfunktionen wie Mustererkennung und Automatisierungsmakros, so dass Benutzer eine große Anzahl von Wafern in kurzer Zeit schnell und genau messen können. Die KLA P-1 ist in eine Vielzahl von Erfassungssoftware integriert, um die aus den Messungen gewonnenen Daten weiter zu analysieren und zu analysieren. Diese Analyse-Software bietet anspruchsvolle Fähigkeiten wie 3D-Oberflächencharakterisierung, Mapping und Scannen von 2D-Bildern, Fehleranalyse Ramping und Defektdichte und Dimensionierung unter anderem. Die Daten können auch für die gemeinsame Nutzung und weitere Analyse in anderen Systemen exportiert werden. Dieses Modell ist in der Lage, die Gesamtkosten und den Zeitaufwand für die Analyse großer Mengen an Waferproben zu reduzieren. Das Gerät ist zudem mit einer intuitiven Benutzeroberfläche ausgestattet, die eine einfache Bedienung und Navigation ermöglicht. Dies erleichtert sowohl erfahrenen Anwendern als auch neuen Wafertests und -analysen den Betrieb des Systems. Das Gerät erfüllt auch Sicherheitsstandards und -protokolle und stellt sicher, dass die Messungen innerhalb der festgelegten Sicherheitsgrenzen durchgeführt werden. Insgesamt ist TENCOR P 1 eine hochgenaue und funktionsreiche Maschine zur Aufzeichnung, Kartierung und Messung von Defekten und anderen Oberflächeneigenschaften auf Substraten und Wafern. Es ist für hochpräzise Messungen und Fehlererkennung konzipiert, so dass Benutzer große Datenmengen genau und effizient analysieren können.
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