Gebraucht KLA / TENCOR P10 #293643963 zu verkaufen

KLA/TENCOR P10 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für den Einsatz in der Halbleitermesstechnik und Lithographie. Es verwendet 'Eigentumsmehrwellenlänge dichte Wellenlängenabteilung, die (MW-DWDM)' Technologie für die vereinigte optische Metrologie und Defektinspektion gleichzeitig sendet, schnelle und genaue Analyse des Halbleitersteindruckverfahrens und der Metrologieeigenschaften ermöglichend. Die Kernkomponenten von KLA P-10 sind seine zweidimensionalen (2D) adaptiven Scanfunktionen, das optische System mit hoher Empfindlichkeit und fortschrittliche Analysewerkzeuge. Das adaptive 2D-Scanning in Kombination mit MW-DWDM-Technologie ermöglicht eine schnelle und genaue Punkt- und Wafer-Abbildung von Fehlerstellen. Der hochempfindliche Detektor ermöglicht es, das für die Messungen erforderliche Lichtvolumen zu reduzieren, während die fortschrittlichen Analysewerkzeuge und die automatisierte Steuerungssoftware der Maschine Fehler in Proben schnell erkennen, auswerten und lokalisieren können. TENCOR P 10 setzt auch ein proprietäres polarisiertes Bildgebungswerkzeug ein, um neue Standoff-Anomalien und Defekte genauer zu erkennen. Dieses Asset nutzt vier optische Linsen und einen hochauflösenden komplementären Scan, um subtile Metrologie- und Lithographiefehler zu identifizieren. Das polarisierte Abbildungsmodell bietet eine verbesserte Wafer-Abdeckung und hilft, das optische Cross-Talk zu reduzieren. Die automatisierten Fehlererkennungsfunktionen von P 10 sind in die „MetCam“ -Ausrüstung von KLA/TERNOC integriert, die bei der Erkennung, Klassifizierung und Trennung von Fehlern von mehreren Schichten in einem einzigen Scan hilft. Die einzigartigen Algorithmen von MetCam können Fehler und Funktionen genau erkennen und klassifizieren, was teure Fehlalarmraten reduziert. Darüber hinaus verfügt KLA P10 über ein modernes optisches Messsystem, das automatische Fokussierung und automatisierte Mapping-Funktionen für präzise Messungen und schnelle Wafer-Mapping kombiniert. Das effiziente Probenhandling und die optische Maschine ermöglichen die minutengenaue Bearbeitung mehrerer Wafer und ermöglichen eine effiziente und wirtschaftliche Datenerfassung und -analyse. KLA/TENCOR P-10 ist an eine Vielzahl von Musterformaten anpassbar und somit ideal für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen. Die modulare, offene Architektur ermöglicht es, sie nach oben oder unten zu skalieren, um den Anforderungen bestimmter Anwendungen gerecht zu werden. KLA P 10 ist kostengünstig konzipiert, und seine robuste Konstruktion macht es zuverlässig und langlebig. Abschließend ist P-10 ein leistungsfähiges Wafer-Prüf- und Messtechnikwerkzeug, das eine schnelle und genaue Analyse von Halbleiterlithographie- und messtechnischen Merkmalen ermöglicht. Es bietet fortschrittliche Funktionen wie robuste Fehlererkennung, effizientes Probenhandling, hochauflösende optische Messtechnik und automatisierte Steuerungssoftware für schnelle Datenerfassung und -analyse. Das modulare, anpassungsfähige Design und die geringen Kosten machen es zu einem großen Wert für jede Halbleitermesstechnik und Lithographie-Anwendung.