Gebraucht KLA / TENCOR P10 #293807273 zu verkaufen

KLA/TENCOR P10 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die bei der Herstellung Hochleistungs- und Präzisionsmessungen kritischer Prozessparameter auf Halbleiterscheiben ermöglicht. Es verwendet fortschrittliche Laser-, Reflektometer- und Streuungsmesstechniken, um bei jedem einzelnen Verarbeitungsschritt extrem präzise Daten zu sammeln. Diese Daten dienen der Verbesserung der Waferproduktion und -ausbeute sowie der Prozesskontrolle. Das UCK- P-10-System besteht aus einem Hauptuntersystem: der Hauptkammer, dem optischen Tisch, der Wafer-Handhabungseinheit, dem Laserquellen-Teilsystem, dem Wafer-Abtast-/Messuntersystem und dem Datenübersetzungs-Teilsystem. Die Hauptkammer beherbergt den optischen Tisch und die Wafer-Handhabungsmaschine und ist für einen niedrigen Temperatur- und Schwingungsbetrieb optimiert. Der optische Tisch ist aus optisch flachem Ultra-Low-Mass-Granit aufgebaut und enthält die Wafer-Abtast-/Meßoptik, wie das Laser-Source-Subsystem und ein teledioptrisches Werkzeug. Das Teilsystem Laserquelle besteht aus einem Laser, einem Reflektometer und verschiedenen Detektionsoptiken. Es wurde entwickelt, um präzise Daten von der Laserquelle auf den Wafern zu sammeln. Das Wafer-Handling-Gerät ist ein 12-Achsen-motorisiertes Modell mit einem Glasfaserkoppler, der eine Bewegung in alle 6 Richtungen und 3 Winkel ermöglicht. Das Wafer-Abtast-/Meßteilsystem enthält den Waferhalter, die Proben-/Meßkammer, das Lichtarray und mehrere einstellbare Elemente. Das Lichtarray besteht aus einer Reihe von Objektiven und Lichtquellen, die genau detailliert sind. Das Datenübersetzungs-Subsystem wandelt die Messdaten in strukturierte Informationen um, die zur weiteren Prozessoptimierung analysiert werden können. TENCOR P 10 Ausrüstung ist entworfen, um hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erreichen. Es ist in der Lage, verschiedene Wafertiefen von wenigen Mikrometern bis zu mehreren hundert Mikrometern zu analysieren und Gleichmäßigkeitsmessungen über den gesamten Wafer bereitzustellen. Die erweiterten Algorithmen in P-10 System ermöglichen auch eine präzise Wafer-Parameterzuordnung. Die Messeinheit ist mit einer 0,2 Mikrometer auflösenden Bildgebungsmaschine zur Erkundung von Masken und Systemen ausgestattet. Insgesamt ist das Wafer-Prüf- und Messtechnikwerkzeug KLA P 10 so konzipiert, dass genaue und hochpräzise Daten über Wafer-Verarbeitungsparameter bereitgestellt werden können, die eine größere Prozesskontrolle und höhere Wafererträge ermöglichen. Mit seinen fortschrittlichen Messtechniken für Laser, Reflektometer und Streuungsmessung kann dieses Gut eine zuverlässige und nachvollziehbare Aufzeichnung für die Halbleiterherstellung liefern.