Gebraucht KLA / TENCOR P10 #9035604 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9035604
Wafergröße: 4"-5"
Weinlese: 1996
Profiler, 4"-5"
Can add 6" & 8" wafer chucks - optional
Currently set up for wafers
MicroHead II low stylus force measurement head
Vertical ranges:
±3.2um at 0.004A resolution
±13 um at 0.016A resolution
131um at 0.08A resolution
Computer, monitor, keyboard & printer
Software: upgraded to KLA/TENCOR P12 software
3-dimensional and selected 2-dimensional data display
Scan length: 60 mm
Manual
1996 vintage.
KLA/TENCOR P10 ist eine Hochleistungs-Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für fortgeschrittene Front-End-Halbleitergerätetests. Es verfügt über ein hochzuverlässiges optisches Messsystem, das extrem präzise Wafer- und Pixelpegelmessungen auf einer breiten Palette von Halbleiterscheiben bis 200 Millimeter Größe ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine fortschrittliche Vision-Maschine, die die Erkennung und Analyse von Merkmalen so klein wie wenige Nanometer ermöglicht, mit der Fähigkeit, Wafer-Level-Merkmale und Widerstandsmuster zu messen. KLA P-10 besteht aus mehreren verschiedenen Komponenten, die zusammenarbeiten, um genaue messtechnische Messungen zu liefern. Seine optischen messtechnischen Eigenschaften werden von einem Vollfeld-optischen Motor angetrieben, mit einem Continuous Optimized Wafer Trajectory (COWT) -Werkzeug, das Vollfeldmessungen ermöglicht. Dieses COWT-Asset wurde entwickelt, um Aberrationen zu beseitigen, was genaue Messungen an Wafern mit verschiedenen Formen und Komplexitätsstufen gewährleistet. Zusätzlich ist TENCOR P 10 mit einem Abbildungsmodul mit einem Wafer Extremity Level (WEL) -Modell gekoppelt, das kritische Waferebenen präzise messen kann. KLA/TENCOR P 10 verfügt zudem über eine branchenführende Beleuchtungseinrichtung aus natürlichen und künstlichen Quellen, die konsistente Messungen über die gesamte Waferoberfläche liefern. Das System enthält zusätzlich eine Low Angle Long Pitch (LALP) Einheit, die die Bildverzerrungen durch Krümmung auf modernen Wafern minimiert und genaue Messungen in jedem Winkel gewährleistet. P-10 wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Parametern zu messen, einschließlich Fehlergrößen, Formeigenschaften, Foliendicke, Widerstand und mehr. Es verwendet die Optic Security Version (OSV) -Technologie, um eine sichere Datenumgebung für die vertrauliche Analyse von Testergebnissen bereitzustellen. Die OSV-Technologie integriert Verschlüsselung, Authentifizierung und sichere Netzwerkfunktionen, die Benutzerdaten vor potenziellen Störungen von außen schützen. In Bezug auf die Maschinenleistung liefert KLA/TENCOR P-10 Hochgeschwindigkeits-Vollfeldmesstechnik mit einer Lesezeit von bis zu 40 Wafern pro Stunde und einer Genauigkeit von +/- 1 nm, was es zu einem effizienten und zuverlässigen Prüf- und Messtechnikwerkzeug für Wafer macht. Dieses Asset verfügt über eine sehr optimierte Benutzeroberfläche, die eine einfache Bedienung der Geräte ermöglicht, sowie die Möglichkeit, Testergebnisse zu speichern und anzuzeigen, die für weitere Analysen leicht exportierbar sind.
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