Gebraucht KLA / TENCOR P10 #9243616 zu verkaufen

KLA/TENCOR P10 Wafer-Prüf- und Messtechnik ist eine automatisierte Messlösung, die den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Dieses System wurde entwickelt, um schnelle, genaue und wiederholbare Messungen von Wafern über viele Prozessschritte hinweg bereitzustellen. Sie ist in der Lage, Wafer mit Abmessungen bis 200 mm Durchmesser zu messen und eignet sich ideal für die Verarbeitung von GaAs und Si Wafern. Zu den Hauptkomponenten des KLA P-10 gehören eine Scanstufe, eine Beleuchtungsquelle, Detektoren, Analysesoftware und ein Präzisionsmanipulator. Die Scanstufe ist so konzipiert, dass sie Hochgeschwindigkeits-Scans über ein weites Sichtfeld ermöglicht und schnelle und genaue Messungen ermöglicht. Die Beleuchtungsquelle besteht aus leistungsstarken Xenonlampen, die gleichmäßige Beleuchtungseinstellungen über die gesamte Waferoberfläche bieten. Die Detektoren sind so ausgelegt, dass sie thermische Emissionen aus dem beleuchteten Wafer erfassen, was eine höhere Genauigkeit der Messungen ermöglicht. Die Analysesoftware ist benutzerfreundlich und ermöglicht es Anwendern, Fehler im Wafer schnell zu erkennen und entsprechende Korrekturmaßnahmen zu ergreifen. Schließlich ermöglicht der Präzisionsmanipulator, den Wafer für Analysen und Messungen in die richtige Position zu bringen. TENCOR P 10 bietet eine höhere Produktivität und Genauigkeit durch die Verwendung seiner hohen Geschwindigkeit, automatisierten Gantt-Operationen und verschiedener Werkzeuge, die entwickelt wurden, um die Oberfläche des Wafers schnell zu analysieren. Darüber hinaus können Anwender die Vorteile der automatischen Partikelerkennung und einer CCD-Checkliste für eine verbesserte Genauigkeit nutzen, sodass sie komplexe Fehler schnell erkennen können. KLA/TENCOR P-10 bietet auch integrierte Temperatur- und Drucksteuerungen, die es Anwendern ermöglichen, Messungen in einer Vielzahl von feindlichen Umgebungen durchzuführen. Temperatur und Druck können genau überwacht werden, so dass jeder Wafer jederzeit unter optimalen Bedingungen gemessen wird. P10 wurde entwickelt, um schnelle, genaue und wiederholbare Messungen von Wafern bereitzustellen. Es kombiniert eine automatisierte Messplattform mit fortschrittlichen Beleuchtungs- und Detektionstechnologien für mehr Effizienz und Genauigkeit. Diese Maschine bietet eine verbesserte Produktivität, höhere Messgenauigkeit sowie integrierte Temperatur- und Druckkontrollen, die es Anwendern ermöglichen, Messungen in selbst feindlichen Umgebungen durchzuführen.