Gebraucht KLA / TENCOR P10 #9248606 zu verkaufen

KLA / TENCOR P10
ID: 9248606
Wafergröße: 6"-8"
Profiler, 6"-8".
KLA/TENCOR P10 ist ein anspruchsvolles, automatisiertes Wafer-Prüf- und Messtechnik-Gerät zur Identifizierung und Charakterisierung von Halbleiterscheiben in Spitzentechnologie-Knoten. Dieses System arbeitet, indem es hochauflösende Bilder jedes Wafers optisch abtastet, um prozessbedingte Fehler zu erkennen. Darüber hinaus bietet KLA P-10 unit erweiterte Datenanalysefunktionen, um Inspektionsmodelle zu erstellen, die auch kleinste Fehler erkennen können. Die Hauptkomponenten der TENCOR P 10 Maschine sind der Blockdiagrammprozessor (BDP), das Laser Imaging Subsystem (LIS), das optische Subsystem und das Metrologie Subsystem. Das BDP ist eine spezialisierte Komponente, die die verschiedenen Komponenten des TENCOR P10-Tools steuert und die Ergebnisse der LIS- und optischen Subsysteme verarbeitet. Es ist auch verantwortlich für den Gesamtbetrieb von TENCOR P-10 Asset und für die Verwaltung der durch das Modell generierten Daten. Das Laser Imaging Subsystem (LIS) von P 10 Geräten besteht aus einem gepulsten Laser, einer Abtaststufe und einer telezentrischen Linse. Dieses Subsystem bietet eine automatisierte, hochauflösende Abbildung der Wafer, die auch kleinste Fehler erkennen können. Der im LIS verwendete Laser ist typischerweise eine Wellenlänge von 515 Nanometern, die für eine Vielzahl von Defekteigenschaften empfindlich ist, einschließlich derjenigen, die mit prozessbedingten Defekten verbunden sind. Das optische Teilsystem des KLA P 10-Systems ist für die Interpretation und Analyse der aus dem LIS gewonnenen Daten verantwortlich. Dieses Subsystem enthält zwei Hauptkomponenten: den Defektmonitor und den Farbmonitor. Mit dem Defektmonitor werden prozessbedingte Defekte an den Wafern identifiziert. Der Farbmonitor dient zur Messung der Farbvariation zwischen verschiedenen Wafern. Das Metrologie-Subsystem ist ein Datenanalysetool, das die vom LIS erzeugten Daten nimmt und mathematische Algorithmen anwendet, um Informationen über die Fehlereigenschaften des Wafers zu extrahieren. Mit diesem Subsystem können Modelle entwickelt werden, die auch die geringsten prozessbedingten Defekte identifizieren. Die P10-Einheit ist ein äußerst leistungsfähiges Werkzeug zur Identifizierung von prozessbedingten Defekten. Es kombiniert hochauflösende Bildgebung, ausgefeilte Algorithmen und leistungsstarke Datenanalysefunktionen, um eine umfassende Lösung für die Qualitätskontrolle in hochentwickelten Technologieknoten zu bieten. Diese Maschine kann verwendet werden, um hohe Erträge und robuste Produktleistung zu gewährleisten, was in der hart umkämpften Halbleiterherstellungsindustrie unerlässlich ist.
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