Gebraucht KLA / TENCOR P10 #9301230 zu verkaufen

KLA/TENCOR P10 ist eine von der KLA Corporation entwickelte Wafer-Prüf- und Messtechnik. Es ist für fortgeschrittene Waferinspektions- und messtechnische Anwendungen in der Halbleiterherstellung konzipiert. KLA P-10 System nutzt TENCOR patentierte Scanning Near-Field Optical Microscopy (SNOM) Technologie, die eine präzise metrische Messung und Fehlerklassifizierung von Strukturen bis zu 2 Mikron ermöglicht. Das Gerät ist in der Lage, Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 300mm zu inspizieren und kann Fehler bis zu 10nm genau erkennen. Der Hauptbestandteil der Maschine ist seine hohe Geschwindigkeit, Kopf der Abtastung des Elektronmikroskops (SEM), der verwendet wird, um eine hohe Auflösung 3-dimensionales Bild der Oblatenoberfläche zu gewinnen. Der SEM-Kopf ist mit der Optikeinheit des TENCOR P 10 verbunden, die das Licht für das Mikroskop liefert. Die Optikeinheit verfügt über fortgeschrittene Beleuchter und Detektoren, die eine Unterflächenbildgebung ermöglichen. Die leistungsstarken bildgebenden Algorithmen des Tools helfen, kleine Defekte wie Verunreinigungen, Ätzungen und Schäden zu identifizieren. Darüber hinaus ist das Asset in der Lage, Muster und Operationsmuster wie Beulen, Gräben und andere messtechnische Merkmale zu erkennen. Die im Modell verwendete Software ermöglicht eine breite Palette von Analyse- und Messwerkzeugen, die es ermöglichen, detaillierte Informationen über den Waferzustand bereitzustellen. Dazu gehören Fehlergrößenanalysen, Overlay- und Maßmessungen, Topologieanalysen, messtechnische Merkmalsanalysen und CD/OCD-Messungen. Darüber hinaus bildet die halbautomatische Ausrüstung einen Plan für die Waferanalyse und -prüfung ab und ermöglicht eine einfache Bedienung. Die in TENCOR P10 enthaltene benutzerfreundliche Software ermöglicht eine einfache Einrichtung und Bedienung. Mit der Software können Anwender individuelle Rezepte für die Waferinspektion und Messtechnik erstellen und das System für spezifische Kundenbedürfnisse konfigurieren. Darüber hinaus bietet die Software einen umfassenden Satz von Tools zur Datenverwaltung, Fehlererkennung und -analyse. Abschließend ist die P 10 Wafer-Prüf- und Messtechnik eine leistungsstarke Lösung, die hohe Genauigkeit, Geschwindigkeit und Flexibilität für die Waferinspektion und Messtechnik bietet. Es nutzt die leistungsstarken bildgebenden Algorithmen, Beleuchter und Detektoren der Maschine, um wertvolle Metriken und Daten bereitzustellen, die für den Halbleiterherstellungsprozess wesentlich sind.