Gebraucht KLA / TENCOR P10 #9399254 zu verkaufen

ID: 9399254
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KLA/TENCOR P10 ist eine hochpräzise Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für fortschrittliche Materialcharakterisierung und Prozess- und Fehlerüberwachung. Das System ist für Rasterelektronenmikroskop (SEM) und fokussierte Ionenstrahl (FIB) -Mapping-Anwendungen von Halbleiterbauelementen, integrierten Schaltungen und anderen Materialien konzipiert. KLA P-10 unit vereint ausgefeilte Bildgebung, automatisiertes Schneiden, hochauflösende Abscheidung und umfassende Bildgebungs- und Charakterisierungsfunktionen, um eine umfassende Waferinspektion und -analyse zu ermöglichen. Die Maschine umfasst eine Reihe integrierter Technologien wie Nanoskala-Auflösungs-Scanmikroskopie, Atomkraftmikroskopie, Raman-Spektroskopie und chemische Bildgebung. Dieses fortschrittliche Tool bietet eine schnelle und genaue Messung der Geräteeigenschaften wie Topographie, Fehlergeometrie, Planarität, Tiefe und chemische Zusammensetzung. Das Asset bietet eine Reihe automatisierter Funktionen, die sich ideal für Messungen wie automatische Fokushöhen- und Fokuspositionskontrolle sowie Fehleroptimierung eignen. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine umfangreiche Metrologie-Suite zur automatisierten Fehleranalyse auf Waferebene. TENCOR P 10 verfügt über fortschrittliche Software-Tools zur Analyse und Berichterstattung von Messergebnissen. Eine intuitive grafische Benutzeroberfläche ermöglicht es dem Benutzer, die Daten schnell anzuzeigen, zu analysieren und zu manipulieren. Automatisierte Werkzeuge vereinfachen die Extraktion quantitativer messtechnischer Daten aus Bildern. Ein umfangreicher Satz von Analysealgorithmen ermöglicht es dem Gerät, verschiedene Muster, Merkmale und Fehler im Bild zu identifizieren und zu klassifizieren. Das System ist in der Lage, Bilder mit einer Auflösung von bis zu 1 Mikron und einer Dicke von bis zu 2 nm zu erfassen. Es verfügt über eine hochpräzise Positioniereinheit, die eine schnelle Ausrichtung und Fokussierung der Probe ermöglicht. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer Vielzahl von Substraten und Materialien kompatibel, einschließlich Halbleitermaterialien, Quarz, Saphir und Glas. Zusammenfassend ermöglicht das fortschrittliche Design und die ausgeklügelte Technologie des KLA/TENCOR P 10 Tools dem Anwender, integrierte Schaltungen und andere Materialien schnell und genau zu analysieren. Das Asset bietet hochauflösende Bildgebung, automatisierte Schnitte und umfassende Waferinspektions- und Analysefunktionen. Umfassende Software-Tools ermöglichen es dem Anwender, die Daten für eine effektivere Messung und Analyse einfach anzuzeigen, zu analysieren und zu manipulieren. Dieses hochpräzise Modell eignet sich für eine breite Palette von Anwendungen zur Materialcharakterisierung und Prozess- und Fehlerüberwachung.
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