Gebraucht KLA / TENCOR P11 #9281222 zu verkaufen

KLA/TENCOR P11 wafer testing and metrology equipment ist ein automatisiertes Inspektions- und Analysesystem, das entwickelt wurde, um schnelle, zuverlässige und konsistente Ergebnisse bei der Inspektion und Charakterisierung von Wafern auf der Nanoskala zu liefern. Dieses Gerät nutzt die neueste automatisierte optische Inspektions- und Bildanalysetechnologie, um Scan- und Charakterisierungsdaten höchster Qualität mit minimalem Eingriff des Bedieners bereitzustellen. KLA P-11 nutzt eine leistungsstarke Suite an Hardware- und Softwaretechnologien, darunter eine hochauflösende CCD-Kamera und ein hochmodernes, kontaktloses Metrologie-Toolset. Diese Maschine ist in der Lage, Wafer mit einem Größenbereich von 200mm bis 600mm zu scannen und zu analysieren. TENCOR P 11 ist auch mit einer Reihe von gemusterten Inspektionsmöglichkeiten ausgestattet, wie die Abbildung von Linien-, Raum- und Array-Funktionen, die Abbildung von Feinabstandsfunktionen und die grundlegende Silizium-Fehlernavigation. Darüber hinaus ist sie in der Lage, definierte Bereiche der Waferoberfläche sowohl räumlich als auch spektral genau zu bestimmen. Neben seinen Scan- und Analysefähigkeiten umfasst TENCOR P11 auch ein erweitertes Messtechnik-Toolset, das spektroskopische Analysen, Oberflächen- und Dickenmessungen, Edge Detection und S/TIL Mapping sowie Fehlercharakterisierung umfasst. Es verfügt auch über Mehrkanal-Fähigkeiten für das gleichzeitige Scannen und Analyse, so dass eine schnelle Messung von großen Flächen. P-11 führt auch Prozesskontrollmaßnahmen durch, die die Inspektion und Verifizierung der Fertigungsprozessergebnisse ermöglichen. Dieses Tool ist mit einer integrierten Automatisierungsbibliothek ausgestattet, die die Erstellung und Ausführung automatisierter Prozesse vereinfacht und es ermöglicht, automatisierte Inspektionen zu erstellen, um Fehlerraten zu reduzieren und Qualitätsstandards über mehrere Produktionslinien hinweg zu erhalten. Insgesamt ist KLA P11 ein robustes, vielseitiges und leistungsfähiges Wafer-Test- und Messtechnik-Asset, das für schnelle, zuverlässige und konsistente Ergebnisse bei der Inspektion und Charakterisierung von Wafern auf der Nanoskala konzipiert ist. Neben seinen leistungsstarken Hard- und Softwaretechnologien nutzt das Modell auch Prozesskontrollmaßnahmen, die die Ermittlung von Fertigungsprozessergebnissen ermöglichen. Diese Kombination von Eigenschaften macht es zu einer idealen Wahl für die Inspektion und Analyse von Wafern in der Halbleiterindustrie.