Gebraucht KLA / TENCOR P12 #9358965 zu verkaufen

KLA/TENCOR P12 Wafer-Prüf- und Messtechnik ist ein automatisiertes Fehlerinspektionssystem, das die Qualität von Halbleiterscheiben während des Herstellungsprozesses sicherstellt. Das Gerät verwendet eine Vielzahl von Detektions- und Messtechniken, um Fehler im Wafermaterial zu identifizieren. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Partikelgrößen, Formen und verschiedene Arten von Unvollkommenheiten im Wafer zu erkennen und zu messen, wie Linienkante/Raumvariabilität, Hohlräume, Partikel, Kratzer und Kontamination. KLA P 12 ist eine fortschrittliche Ausrüstung, die ein Inspektionsmodul umfasst, das mit einer Wafer-Handhabungs- und Kartiermaschine, dem Inspektionswerkzeug und dem bildgebenden Werkzeug ausgestattet ist. Das Werkzeug ist in der Lage, 20nm Auflösung, die für High-End-Prozesssteuerung und fehlerfreie Wafer notwendig ist. Das Werkzeug verwendet eine Multi-Mode-Wafer Handling Asset bietet präzise Bewegung, genaue Positionierung und Ausrichtung der Wafer. Das bildgebende Modell umfasst eine Reihe von aktinischen und Hellfeld-Beleuchtung mit einem direkten optischen Mikroskop. Das Gerät ist in der Lage, Echtzeit-hochauflösende Bilder der Wafer zu erkennen und zu messen Oberflächenunregelmäßigkeiten, Defekte und Partikel. TENCOR P-12 ist mit einer leistungsstarken Fehleranalysesoftware ausgestattet, die Partikel- und Fehlergrößen und -formen erkennen und klassifizieren kann. Das System kann auch wichtige Merkmale des Wafers identifizieren, wie Gerätedichte, Linienbreite und Dickenänderungen. Die Software kann die Gerätestatistiken mit erwarteten Werten vergleichen und warnt den Bediener, wenn irgendetwas aus Spezifikationen ist. Das Gerät beinhaltet zudem wichtige Funktionen zur Datenspeicherung und Berichtsgenerierung für die detaillierte Überwachung und Archivierung von Prozessberichten. Insgesamt ist KLA/TENCOR P-12 eine leistungsstarke Wafer-Prüf- und Messtechnik-Maschine, die entwickelt wurde, um die Ausbeuten der Halbleiterproduktion durch die Erkennung und Messung von Partikeln und Defekten auf den Wafern zu maximieren. Die 20-nm-Auflösung, die potente Fehleranalysesoftware und die Datenspeicher-/Berichtsgenerationsfunktionen machen es zu einem unschätzbaren Asset für jedes Halbleiterherstellungsgeschäft.