Gebraucht KLA / TENCOR P16+ #9148051 zu verkaufen
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ID: 9148051
Surface profiler
Lapping
Measurement method: long-scan contact linear scans
Vertical resolution: 0.2 Å @ 327 μm
Step height repeatability: 6 Å, 100nm step
Profile data points: 4,000,000
Scan length: 80 or 200 mm
Maximum Z range: 1 mm
Stage translation: 240 mm x 240 mm
Sample positioning: motorized <1 μm
Sample stage diameter: 200 mm
Stylus force: 0.05 mg- 50mg
Field of view: 1.0mm - 4.0mm
Scan speed: 2 μm/sec to 25 mm/sec
Relative humidity: 30~40% (non-condensing) recommended
Temperature: 16℃~25℃, rate of change ≤2° C/h
Vacuum: 500 mm Hg @ 27 liters/min
Electrical: 220V, 60Hz, 430VA.
KLA/TENCOR P16 + ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die für Hochleistungs-Inline-Messtechnik und Fehlerinspektion in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Das System bietet erweiterte Werkzeugfunktionen in Kombination mit einer intuitiven Benutzeroberfläche, um schnelle, konsistente und zuverlässige Testergebnisse zu ermöglichen. KLA P 16 + ist eine Einheit der nächsten Generation, die eine Mehrkanal-Halbleiterwaferinspektion auf Stempelebene sowohl hinsichtlich der Detektionsempfindlichkeit als auch hinsichtlich des schnellen Datendurchsatzes ermöglicht. TENCOR P-16 + Maschine bietet branchenführende Wafer Defekt Erkennung Genauigkeit und Leistung. Das Tool ist mit fortschrittlichen Quad-Channel-Detektor-Technologien ausgestattet, die es ermöglichen, Fehler in verschiedenen Maskenschichten und Fehlergrößen genau zu erkennen. Es verfügt über eine laterale Nanometer-Auflösung und bietet überlegene Algorithmen zur Mustererkennung, die eine hochgenaue Fehlererkennung und -klassifizierung ermöglichen. Das Asset bietet eine schnelle automatische Erkennung von räumlichen Array-Typen wie DPTs, Ecken, Bereichen und Komponenten für die Flächenmontierung. Neben der Fehlererkennung bietet das Modell TENCOR P16 + auch Inline-Messtechnik. Es bietet eine Vielzahl von anspruchsvollen Messtechniken, wie CD-SEM, Streuung und Ellipsometrie, um sowohl vertikale als auch laterale Abmessungen und Verzerrungen auf der Waferoberfläche zu messen. Es bietet auch Durchsilizium-via (TSV) CD-SEM-Messungen, Fehlerverfolgung und Platzierung von Testmustern auf dem Wafer. Das Gerät ist mit einem fortschrittlichen optischen Profilermodul ausgestattet, das fortschrittliche Lichtstreuungs- und Bildverarbeitungstechniken für schnelle und genaue messtechnische Messungen bietet. KLA P-16 + System ist einfach zu bedienen, zuverlässig und kompatibel mit verschiedenen Automatisierungsschemata. Seine bedienerfreundliche Schnittstelle ermöglicht eine einfache Bedienung mit der Fähigkeit, Testpläne und Einstellungen für bestimmte Anwendungen anzupassen. Darüber hinaus bietet das Gerät anspruchsvolle Datenverwaltungsfunktionen mit Echtzeit-Datenanalyse und Reporting-Funktionen. Seine benutzerfreundlichen Funktionen helfen, den Betrieb und den Inspektionsprozess zu optimieren, was zu einer verbesserten Produktivität und Qualitätssicherung führt. Schließlich ist TENCOR P 16 + für Zuverlässigkeit, Haltbarkeit und Kosteneffizienz gebaut. Es bietet robuste und zuverlässige Designs, die höchsten internationalen Standards entsprechen und für alle Produktionsumgebungen geeignet sind. Die Maschine wurde entwickelt, um Ausfallzeiten, kostspielige Reparaturen und Wartungskosten zu reduzieren, was zu maximaler Produktivität und Rentabilität führt. Abschließend ist P16 + ein leistungsfähiges Wafer-Test- und Metrologie-Tool, das erweiterte Werkzeugfähigkeiten und zuverlässige Leistung bietet. Es bietet hohe Genauigkeit Fehlererkennung und Inline-Messtechnik Fähigkeiten, so dass es für eine Vielzahl von Anwendungen innerhalb der Halbleiterindustrie geeignet. Die Anlage ist auf Benutzerfreundlichkeit, Zuverlässigkeit und Wirtschaftlichkeit ausgelegt, was zu verbesserter Qualität und Produktivität führt.
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