Gebraucht KLA / TENCOR P16+ #9364779 zu verkaufen

KLA / TENCOR P16+
ID: 9364779
Wafergröße: 2"-6"
Profilers, 2"-6".
KLA/TENCOR P16 + ist eine hochentwickelte Wafer-Prüf- und Messtechnik, die zur Prozessoptimierung und Fehlerinspektion eingesetzt wird. Die KLA P 16 + wurde entwickelt, um umfassende Messungen der Parameter und Eigenschaften eines Wafers zu erfassen. Es verwendet eine Lastsperre, einen automatisierten Wafer-Handler und eine integrierte Messtechnik, um kritische Parameter wie kritische Dimension (CD), Fehlerinspektion und Overlay-Ausrichtung sowie andere Prozessleistungsmetriken zu messen. TENCOR P-16 + verfügt über ein proprietäres hochauflösendes optisches System, das eine präzise berührungslose und zerstörungsfreie Messung kritischer Parameter wie CD und Overlay ermöglicht. Diese Einheit ermöglicht es dem Bediener, 0,5 mm oder weniger CD-Variation auf der Waferoberfläche aufzulösen, was deutlich über die Empfindlichkeit anderer Messtechnik-Systeme hinausgeht. Darüber hinaus bietet die KLA P16 + eine Echtzeitmaschine zur effizienten Fehlerinspektion und kann mit ihrer hohen Empfindlichkeit und Auflösung extrem kleine Defekte und Partikel in Echtzeit erkennen. TENCOR P16 + verfügt auch über ein modernes Wärmebildwerkzeug, um eine genaue Temperaturregelung des Wafers während der Prüfung bereitzustellen, sowie einen speziellen Ausrichtungsalgorithmus zur Messung der Überlagerungsleistung. Dieses Asset bietet auch eine schnelle, hochgenaue Ausrichtungslösung für kritische Funktionen. Ein automatisierter Wafer-Handler unterstützt verschiedene Wafergrößen von 8 Zoll bis 12 Zoll, mit einem einzigartigen Design, um eine präzise Ausrichtung und Handhabung zu gewährleisten. Insgesamt ist P 16 + eine ideale Lösung, um Prozesse zu optimieren und eine gleichbleibende Qualitätssicherung zu gewährleisten. Es wurde entwickelt, um Prozesse zu optimieren und gleichzeitig die Empfindlichkeit und Genauigkeit der Erkennung zu verbessern. KLA/TENCOR P 16 + ermöglicht es dem Bediener, Wafer schnell und präzise zu testen und die Prozessstabilität zu überwachen. Es ist ein sehr vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug für fortschrittliche messtechnische Anwendungen.
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