Gebraucht KLA / TENCOR P17 OF #293666751 zu verkaufen

KLA/TENCOR P17 OF Wafer Testing and Metrology Equipment ist ein High-End Messtechnik-System für die Inspektion von Wafersubstraten in der Halbleiterindustrie verwendet. Die Einheit verwendet eine Kombination aus fortschrittlichen Evaluierungs- und Messtechniken, einschließlich Vollfeldbildgebung, automatisierter Fehlerüberprüfung und fokussierter Ionenstrahlanalyse, um eine detaillierte, umfassende Ansicht von Wafersubstraten zu ermöglichen. Die KLA P17 OF-Maschine besteht aus mehreren Modulen, darunter einem optischen Infrarot-Scanning-Subsystem, einem 5-Megapixel-Kamerawerkzeug und einer hocheffizienten Ionensäule mit geringer Leistung. Die optische Infrarotabtasteinrichtung ermöglicht die Vollfeldabbildung und liefert ein detailliertes, hochauflösendes Bild des gesamten Wafers. Das Kameramodell ermöglicht eine automatisierte Fehlerüberprüfung und ermöglicht eine schnelle, reproduzierbare Überprüfung von prozessbedingten Fehlern am Wafer. Die Ionenstrahlsäule ermöglicht eine beispiellose Analyse lokalisierter Bereiche auf dem Wafer zur weiteren Auswertung von prozessbedingten Defekten. Neben den bildgebenden und messtechnischen Komponenten umfasst TENCOR P17 OF auch eine automatisierte Wafer-Staging-Ausrüstung, die einen hochkonfigurierbaren Waferaufbereitungs- und Handhabungsprozess bietet. Das Staging-System ermöglicht eine genaue, wiederholbare Positionierung des Wafers und eine automatisierte Ausrichtung auf die bildgebenden und messtechnischen Komponenten. P17 OF ist mit einer vollständig integrierten Bildaufnahme-, Verarbeitungs- und Anzeigeeinheit konzipiert, die dem Bediener eine einfach zu bedienende grafische Oberfläche bietet. Die intuitive Bedienoberfläche ermöglicht dem Bediener einen umfassenden Einblick in alle Bereiche der Messtechnik. Die Maschine kann Daten aus früheren Läufen speichern, so dass der Bediener die Läufe für Analyse und Vergleich schnell zurückrufen und analysieren kann. KLA/TENCOR P17 OF wurde entwickelt, um den Anforderungen der neuesten Halbleiterprozesstechnologien gerecht zu werden und bietet modernste Leistung und Messfähigkeit. Das Tool eignet sich ideal für Masken zur Maskierung von Prozessentwicklungs-, Prozesskontroll- und Qualitätssicherungsanwendungen. Die Anlage bietet eine beispiellose Genauigkeit und Zuverlässigkeit und bietet Halbleiterprozessingenieuren in den fortschrittlichsten Technologieknoten Zuverlässigkeitsgarantie.