Gebraucht KLA / TENCOR P17 #293664880 zu verkaufen

KLA / TENCOR P17
ID: 293664880
Surface profiler Constant stylus force controller Microhead 5 SR Measurement head Vertical range: 0-327 µm Stylus force: 0.5-50 mg Scan length: 200 mm Dual-view optics: Side and top view Top view objective lens: 1400 x 1040 µm With auto magnification Digital camera: 5 Megapixel Stylus radius: 2.0 µm, 60° Motorized level and rotation, 8" Hold-down vacuum sample PC With LCD Monitor, 23" Operating system: Windows.
KLA/TENCOR P17 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung zur Messung von Defekten, Geräteeigenschaften, Zusammensetzung und anderen Merkmalen von Halbleiterscheiben, die in der modernen Geräteherstellung verwendet werden. Es kann eine Vielzahl von Materialschichten in einem einzigen Scan analysieren, so dass die Prozessvariation und Fehler schnell erkannt werden können. Das System enthält Wafer-Scanning-Optik, automatisierte Mikroskope und eine breite Palette von optoelektronischen und elektromagnetischen Sensoren. Die Optik besteht aus Lasern, Linsensystemen und anderen optischen Elementen, die verwendet werden, um eine Vielzahl von Messungen in mehreren Winkeln und Tiefen auf jedem einzelnen Scan zu erfassen. Die automatisierten Mikroskope umfassen eine motorisierte, z-Achsen-Bühne und eine hochauflösende Kamera, um hochauflösende Bilder des Wafers zu erfassen. Die KLA- P-17 ist in der Lage, kritische Informationen aus jedem Scan zu erfassen, um detaillierte Merkmale und Musterstrukturen des Wafers zu identifizieren, detaillierte Bilder mit lokalen Variationen bereitzustellen und Optionen zur hochauflösenden Analyse sowohl kritischer Dicken- als auch Kompositionsvariationen bereitzustellen. Durch die Kombination von Flächen- und Punktmessungen bietet sie einen Überblick über das Geschehen auf dem Wafer. Die fortschrittlichen Algorithmen von TENCOR P 17 können Probleme früher im Prozess erkennen und bieten Ingenieuren eine Möglichkeit für schnelle Korrekturmaßnahmen. Das Gerät kann verschiedene Arten von Defekten und Abbau, wie Oxidaufbau, Kontamination oder Korrosion, erkennen und messen und kann auch verwendet werden, um Indikatoren der Drahtintegrität zu messen. Darüber hinaus können TENCOR- P-17 Daten über alle Materialschichten eines Wafers sammeln und vollständige Informationen zu Fehlern und Prozessvarianten für eine umfassende Analyse bereitstellen. Die Maschine umfasst auch eine integrierte Datenbank, die eine effiziente Speicherung und Analyse großer Mengen an Inspektionsdaten ermöglicht. Um Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten, kann die KLA P 17 mit Hilfe integrierter NIST-Kalibrierungsstandards wiederholt kalibriert werden. Das Tool ist ein vollautomatisches Asset und kann in eine breite Palette von Produktionsprozessen integriert werden, was die Testzeit und -kosten reduziert und hochgenaue, wiederholbare Ergebnisse liefert. Abschließend ist TENCOR P17 ein fortschrittliches Wafertest- und Metrologiemodell, das verschiedene Arten von Defekten oder Abbau auf Siliziumscheiben erkennen kann. Seine fortschrittlichen Sensoren und optischen Systeme bieten Ingenieuren umfassende Informationen für schnelle Korrekturmaßnahmen und verbesserte Effizienz. Die Anlagen können in Produktionsprozesse integriert werden, was die Testzeit und -kosten reduziert und zuverlässige Ergebnisse liefert.
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