Gebraucht KLA / TENCOR P2 #9005127 zu verkaufen

KLA/TENCOR P2 ist eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik, die für Wafer-Level-Messtechnik und Fehlerüberprüfung entwickelt wurde. Es verwendet die neueste Technologie, um Wafer auf Fehler zu untersuchen und zu analysieren, elektrische, optische und andere physikalische Parameter für eine breite Palette von Halbleitern und anderen Materialien zu messen. Das System besteht aus drei Komponenten: einer Großrechnereinheit, einem Wafer-Prober und einem Excimer-Laser. Die Großrechner-Maschine besteht aus einer optischen Mikroskop-Bühne, einer automatisierten Prober-Bühne und einem Wafer-Handler. Es kann verwendet werden, um Analysen mit einer Reihe von hochauflösenden Bildgebungstechniken durchzuführen, einschließlich Ellipsometrie, polarisierte Lichtmikroskopie, Oberflächenanalyse, Absorptionsspektroskopie und Bildgebung. Diese Techniken werden verwendet, um Materialschichten, Stromleckage, Schichtdicke, Widerstand, Oberflächenrauhigkeit und optische Eigenschaften zu messen. Der Wafer-Prober wird verwendet, um Kontakt mit einem Wafer herzustellen und verschiedene Tests durchzuführen. Der Tastkopf enthält eine Reihe von Miniatursonden, die die Oberfläche des Wafers berühren. Dadurch kann der Kontakt mit dem Wafer elektrische Parameter wie Widerstand, Kapazität und Induktivität messen. Die Sonden messen auch das Potential einer Schaltung, der Strom fließt durch den Wafer und überwacht Spannungsabfälle. Alle diese Informationen werden in der Fehleranalyse verwendet. Mit dem Excimerlaser wird ein Muster in das zu inspizierende Material geätzt. Dieser Laserstrahl wird verwendet, um Mikroschaltungsmerkmale mit einer hohen Genauigkeit und Präzision zu schaffen. Der Laserstrahl kann winzige Muster auf Material mit einer Genauigkeit von besser als 1 Mikron erzeugen. Der Laserstrahl kann auch verwendet werden, um Defekte an dem Material zu erkennen, das nicht mit einem Standardmikroskop detektiert werden kann. KLA P-2 ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Wafer-Prüf- und Messtechnik-Tool, das präzise und zuverlässige Ergebnisse liefert. Die Anlage eignet sich ideal zur Messung elektrischer, optischer und anderer physikalischer Parameter von Halbleitern und anderen Materialien und kann zur Erkennung von Materialfehlern verwendet werden. Es ist weit verbreitet in der Halbleiterindustrie für die Gewährleistung der Qualität der Materialien im Herstellungsprozess verwendet.