Gebraucht KLA / TENCOR P2 #9007474 zu verkaufen

ID: 9007474
Automated long scan profilometer Optic: 150-600X HI Stylus force: 0: 226 10: 339 40: 557 100: 840 300µ Range: 0.9975 Scan length: 0.0000000 Backlash: 0 Drop timer: 27 Linearity: A: 975 B: -350 Options: Sequence / Data base manager option Motorized level and rotation option Measure micro-roughness with: 1 Å resolution over short distances scan: 210 mm (8.2") PC / AT Computing power automatic measurement capability Data storage Data analysis Includes: Magnetic disks Semiconductor wafers Precision-machined and polished surfaces Ceramics for micro-electronics Glass for flat panel displays Optical surfaces Measurement of vertical ranging under 100 Å: 0.4 µin to ~0.3 mm (11 Mils) With vertical resolution 1 / 25 Å: 0.004 / 0.1 µin Measurements either metric / English Independently for horizontal and vertical parameters Does not include key lock Power supply: 115 V, 4 A, 60 Hz, Single phase.
KLA/TENCOR P2 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die für eine Vielzahl von Halbleiterprozessen und Fehlerinspektionsanwendungen konzipiert ist. Das System bietet eine umfassende Fehleranalyselösung mit der besten verfügbaren Präzision. Es ist in der Lage, die gesamte Waferoberfläche mit einer hohen Auflösung und Genauigkeit zu scannen. Das Gerät wird von einer proprietären UCK-Spektralbildverarbeitungstechnologie angetrieben, die es ermöglicht, prozess- und produktbezogene Fehler zu erkennen und zu charakterisieren. Die Verarbeitungsleistung der Maschine ermöglicht es, die gesamte Waferoberfläche in wenigen Minuten zu scannen. Es enthält proprietäre Algorithmen, die die Bildverarbeitung und Fehlercharakterisierung verbessern. Das Tool verfügt auch über eine erweiterte integrierte Software mit Fehlerartefakt-Charakterisierung, Fehlerpriorisierung, statistischer Fehleranalyse und Fehlertrending-Fähigkeiten. Das Asset verfügt über integrierte Tools zur Verwaltung und Analyse von bis zu 200.000 Produktfehlern pro Stunde mit niedrigen falsch-positiven und falsch-negativen Raten. Das Modell ist auch so konzipiert, dass Benutzer leicht zwischen den Prüfmodi wechseln können, so dass sie ihren Einsatz für verschiedene Prozesse und Anwendungen optimieren können. Das Gerät enthält auch TENCOR patentierte KORE™-Technologie, die die Abbildung von hochauflösenden Spektralbildern bietet. Es erfasst Bilder von der gesamten Oberfläche und bietet eine detaillierte Analyse von optischen Parametern wie Critical Dimensions (CD) und Line Edge Roughness (LER). Das System beinhaltet auch ein leistungsfähiges Softwarepaket für die optische Messtechnik, das den Betreibern beispiellose Möglichkeiten bietet, kleine Defekte wie Partikel, Versetzungen, Hillocks und andere optische Linien- und Oberflächentopologiefunktionen genau zu charakterisieren. Das Gerät bietet zudem eine komplette Reihe von automatischen Fehlerklassifizierungs- und Fehlergrößenanalysetools für eine effiziente und konsistente Fehlercharakterisierung. Darüber hinaus ist die Maschine für die einfache Integration in bestehende Messtechnik-Systeme konzipiert, so dass Benutzer Daten aus einer Vielzahl von Quellen erfassen können. KLA P-2 ist ein unglaublich leistungsfähiges Werkzeug für Fehlerinspektions- und Wafertestanwendungen. Es ist die Fähigkeit, hochpräzise, genaue Messungen von Defektparametern zur Verfügung zu stellen, verleiht ihm den Vorsprung gegenüber herkömmlichen Wafer-Prüfmethoden. Mit seinen umfassenden Fähigkeiten und innovativen Technologien ist das Tool ein unverzichtbares Werkzeug für jede Halbleitergießerei oder Produktionsumgebung.
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