Gebraucht KLA / TENCOR P2 #9163528 zu verkaufen

KLA/TENCOR P2 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um genaue Messungen von Prozessvariablen auf einer Vielzahl von Probenmaterialien, wie GaAs, SiGe und SiC-Wafern, sowie MEMS und nanoskalige bildgebende Proben bereitzustellen. Es ist in der Lage, Messungen sowohl über physikalische Dimensionen als auch über elektrische Eigenschaften von Halbleitersubstraten durchzuführen. Das System verwendet eine Kombination aus hochauflösender Bildgebung, Tiefgrabenätzen, integrierter optischer Diagnostik und einem Bordcomputer, um detaillierte Parameter von Wafern wie Topographie, Oberflächenmorphologie, Dotierung, Widerstand und spezifizierte elektrische Leitfähigkeit zu messen. Das Gerät ist in der Lage, hochauflösende Bilder des Wafers aufzunehmen und gleichzeitig detaillierte physikalische und elektrische Parameter des Wafers bereitzustellen, was den Prozess der Messung und Charakterisierung von Wafern vereinfacht. Die Maschine ist mit fortschrittlichen Software- und Hardware-Schnittstellentechnologien ausgestattet, die eine einfache Integration in bestehende Fertigungsinfrastrukturen ermöglichen. Dazu gehören Funktionen wie ein Ethernet-Port, eine intelligente Hoststeuerung und eine Suite von Bildanalysesoftware. Das Werkzeug ist in der Lage, eine Vielzahl von Prozessgrößen zu messen, um elektrische Eigenschaften wie Kapazität, Behinderung, Phasenverschiebung und Impedanz zu messen. Das Asset ist für hohen Durchsatz und Genauigkeit ausgelegt und kann in einer einzigen Analysesitzung eine eingehende Analyse vieler verschiedener Arten von Halbleiterkomponenten durchführen. Es ist auch mit erweiterten Kalibrierungs- und Kalibrierungsmanagementfunktionen ausgestattet und ermöglicht Messungen kleiner Funktionsgrößen. Die vom Modell verwendeten mathematischen Algorithmen ermöglichen eine sehr genaue Berechnung der elektrischen Eigenschaften und Leistungsdaten zur genauen Messung und Analyse. Darüber hinaus unterstützt das Gerät die neuesten Methoden der statistischen Prozesskontrolle (SPC) und kann verwendet werden, um Produktprozessvariationen zu erkennen und schnell Korrekturmaßnahmen zu ergreifen. Die das System begleitende Software ermöglicht die Datenanalyse, die Erstellung von Berichten und die enge Überwachung von Prozessvariablen. Insgesamt ist KLA P-2 eine fortschrittliche Wafertest- und Metrologieeinheit, die entwickelt wurde, um genaue Messungen von Prozessvariablen auf einer Vielzahl von Halbleiterkomponenten bereitzustellen. Es basiert auf fortschrittlichen Bildgebungs- und Analysetechnologien und eignet sich ideal für die tiefgreifende Analyse von Wafern und anderen Komponenten. Die Maschine ist hochgradig anpassbar und bietet eine breite Palette von Funktionen zur statistischen Prozesssteuerung und genauen Messung elektrischer Eigenschaften.