Gebraucht KLA / TENCOR P2 #9205754 zu verkaufen

KLA/TENCOR P2 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die zur Inspektion und Analyse der Wafer-Topographie verwendet wird. Das System bietet eine Kombination aus automatisierter Optimierung und Fehleranalyse für schnelle und klare Ergebnisse. Es ist die fortschrittlichste heute verfügbare Wafer-Messtechnik und verwendet eine einzigartige Bildgebungs- und Mustererkennungstechnologie, um präzise 3-dimensionale Messdaten zu erfassen. KLA P-2 Bildverarbeitungsmaschine verwendet fortschrittliche Bildverarbeitungstechnologie, wie eine ultraviolette Mikrokanalplatte, Elektronenstrahlsäule und elektronenoptische Säule. Die resultierenden Bilder werden analysiert, mit Referenzstrukturen verglichen und korreliert, um detaillierte Wafer-Topographien zur automatisierten Fehlererkennung zu entwickeln. Zum Werkzeug gehört auch ein automatisierter Wafer-Inspektionsprozess, der eine schnelle und genaue Inspektion von Wafern ermöglicht. Die Anlage ist mit einer meteorologischen Kammer mit einem einstellbaren Temperatur- und Feuchtigkeitsbereich ausgestattet, um die Rückkopplung von der Waferoberfläche genau zu messen. TENCOR P 2 Metrologiemodell verfügt über eine Reihe von fortschrittlichen Software-Tools für Datenanalyse, Statistische Prozesssteuerung (SPC) und Datenvisualisierung. Die SPC-Software kann Trends wie Variationen in der Wafer-Oberflächentopographie und Unregelmäßigkeiten in den Testergebnissen erkennen. Die Datenvisualisierungssoftware gibt einen Überblick über die während des Tests gesammelten Daten, so dass Analysten mit Leichtigkeit intuitive und informative Diagramme erstellen können. Ausrüstung der KLA P2 zeigt auch eine hohe Geschwindigkeit, niedrigen Energieultraschallsignalgenerator, der verwendet wird, um Daten an einer hohen Auflösung zu analysieren. Dies ermöglicht eine präzise Analyse und Messung von Defekten an der Waferoberfläche. Das System ist auch mit einem Laser-Interferometer ausgestattet, das die Ebenheit der Oberfläche des Wafers sowie etwaige Defekte in der Wafer-Topographie messen kann. Die Gesamtarchitektur der P2-Plattform ist auf Automatisierung, Flexibilität und Skalierbarkeit ausgelegt. Es ist eine robuste Metrologie-Einheit, die mehrere Tests, mehrere Wafer und mehrere Prozessbedingungen verarbeiten kann. Und da die Maschine vollständig anpassbar ist, kann sie auf spezifische Kundenbedürfnisse zugeschnitten werden. Alle Funktionen von KLA/TENCOR P-2 kombinieren ein zuverlässiges und umfassendes Wafer-Test- und Messtechnik-Tool, das präzise Ergebnisse für jede Anwendung liefern kann. Mit seinem innovativen Design und seiner fortschrittlichen Technologie ist es ein unschätzbares Werkzeug für die Waferanalyse und Fehleranalyse.