Gebraucht KLA / TENCOR P2 #9216047 zu verkaufen

KLA/TENCOR P2 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die den Herausforderungen der messtechnischen Analyse für die Halbleiterproduktion gerecht wird. Es kombiniert erweiterte Waferinspektions- und Messtechnikfunktionen zu einem einzigen System, um Zeit und Ressourcen zu sparen. Das Gerät verfügt über mehrere einzigartige Funktionen, die einen komplexen Prozess effizienter machen sollen. Die hochentwickelte KLA P-2 nutzt fortschrittliche bildgebende Funktionen, um präzise Ätz-, Textur- und Overlay-Messungen bereitzustellen. Die Maschine kann Fehler in der Größenordnung von 0,5 Mikrometern erkennen, mit der Fähigkeit, Autofokus auf jede Probe und seine Vollfeld optisch erfasste Daten. Darüber hinaus verfügt TENCOR P 2 über einen optionalen Zeilenscanner, um einen kompletten Datensatz der gesamten Waferoberfläche zu erfassen, wodurch der Benutzer die vollständige Kontrolle über die Wafer-Messtechnik erhält. TENCOR P-2 hat auch eine Reihe von Anpassungsoptionen. Es kann für Vollfeld- oder Zeilenscanner-Bildgebung eingerichtet werden, abhängig von den einzigartigen Anwendungsanforderungen. Der Scanner kann sogar so konfiguriert werden, dass Wärmebilder aufgenommen werden, so dass er temperaturempfindliche Prozesse effizienter durchführen kann. Die Benutzeroberfläche von TENCOR P2 ist einfach zu bedienen und bietet schnellen Zugriff auf Menüs und Funktionen. Das Tool ist mit einer in sich geschlossenen Analysebibliothek ausgestattet, kann aber auch für die Verwendung mit Software von Drittanbietern oder MAS Scripting angepasst werden. Darüber hinaus kann das Gut programmiert werden, um Defekte im Flugzeug zu erkennen und zu beheben, was die Qualität und den Ertrag von Wafern verbessert. KLA P 2 wurde entwickelt, um die Anforderungen eines intensiven Wafer-Produktionsprozesses zu erfüllen und sicherzustellen, dass jeder Wafer nach hohen Qualitätsstandards hergestellt wird. Dank der fortschrittlichen Bildverarbeitungsfunktionen, der effizienten Benutzeroberfläche und der Vielzahl an Anpassungsoptionen ist das Modell in der Lage, Fehler schnell und genau zu identifizieren und zu korrigieren, wodurch die Waferproduktion schneller und kostengünstiger wird.