Gebraucht KLA / TENCOR P2 #9224719 zu verkaufen

ID: 9224719
Surface profilers COHU Camera.
KLA/TENCOR P2 ist ein Wafertest- und Messtechnik-System, das der Halbleiterindustrie modernste Metrologie- und Testfunktionen bietet. Das System unterstützt Schlüsselfertigungsprozesse für Wafer, einschließlich Werkzeugbefestigung, Lithographie, dielektrische Beschichtung, Resistbeschichtung/Entwicklung und Düsenbindung. Es ermöglicht auch fortschrittliche Prozesskontrolle, Fehlervermeidung und Ertragsmanagement und nutzt die Funktionen der Hochgeschwindigkeitsoptik, thermischen und elektrischen Messtechnik. KLA P-2 besteht aus einer Reihe von berührungslosen optischen, röntgen-, akustischen und elektrischen Sonden und Modulen, die hochauflösende Bildgebungsfunktionen und detaillierte Messungen von Parametern wie Schichtdicke, Oberflächenrauhigkeit, Verbindungsgeometrie, Transistoreigenschaften und Stanzverzug bieten. Das Röntgen-CCD ermöglicht die Fehlererkennung, während die optische Sonde Linienbreiten, Kontaktlöcher und Kontakte misst. Die akustischen und thermischen Sonden messen die Mikrobump-Morphologie und den Standort. Das elektrische Modul ermöglicht die Gerätecharakterisierung und Geräteoptimierung mit einer Vielzahl von elektrischen Test- und Analysetechniken. TENCOR P 2 ist für alle wichtigen Stufen der Geräteherstellung konzipiert, einschließlich Fehlerinspektion, Messtechnik, Prozesssicherung und Prozesskontrolle. Seine hohe Auflösung und Genauigkeit ermöglichen eine präzise Kontrolle der Funktionsgrößen und -formen, wodurch sichergestellt wird, dass die Geräte den Qualitätsanforderungen entsprechen. Die Hochgeschwindigkeits-Bildgebungs- und Datenanalysefunktionen ermöglichen die Echtzeit-Überwachung und Auswertung von Geräteherstellungsschritten, unterstützen die Prozessoptimierung und ermöglichen ein schnelleres Hochfahren neuer Prozesse und Geräte. Erweiterte Optimierungs- und Datenverwaltungstools ermöglichen die effiziente Generierung datengesteuerter Entscheidungen. KLA P 2 umfasst auch automatisierte Vollfeldprozesssteuerung und APC-Funktionen (adaptive process control), mit denen Benutzer ihren Prozess in Echtzeit manipulieren können. Anwender können schnell auf kritische Prozessmetriken und unkritische Ertragsdaten reagieren, um die Produkterträge zu verbessern. Insgesamt ist KLA P2 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für die Halbleiterindustrie. Mit seinen hochauflösenden optischen, Röntgen-, akustischen und elektrischen Sonden, kombiniert mit fortschrittlichen Optimierungs- und Datenverwaltungsfunktionen, bietet TENCOR P2 die fortschrittliche Prozesskontrolle, Fehlerverhütung und Ertragsmanagement, die für heutige Anwendungen mit hohem Volumen und hoher Präzision erforderlich sind.
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