Gebraucht KLA / TENCOR P2 #9252431 zu verkaufen

KLA/TENCOR P2 ist eine anspruchsvolle Wafer-Prüf- und Messtechnik, die die Charakterisierung und Visualisierung der physikalischen Eigenschaften eines Wafers ermöglicht. Dieses System kann sowohl Licht- als auch Dunkelfeldbilder messen und bietet detaillierte Ansichten der Topographie des Wafers über eine Vielzahl von Vergrößerungen. Es hat auch die Fähigkeit, sowohl atomare Kraft und kritische Dimension zu analysieren, sowie die Partikeldefektebene. KLA P-2 beinhaltet auch eine kombinierte Mikroskop/Rasterelektronenmikroskop (SEM) -Kammer für höchst hochauflösende und hochempfindliche Inspektionen. Die Einheit umfasst zwei primäre Messtechnik-Prozesse, Photon Scanning Tunneling Microscopy (PSTM) und Automated Shaped Defect Detections (ASDD). PSTM ermöglicht die genaueste Analyse der Oberflächentopologie unter Verwendung einer Kombination von Tunnelströmen von der Substratoberfläche und dem von der Immersionsoptik emittierten Laserstrahl. Dies gibt dem Mikroskop auch die höchste Auflösungsdefektion für die präziseste Bildgebung. Auf der anderen Seite ermöglichen ASDD-Prozesse eine schnelle automatisierte Erkennung von Defekten an dunklen und hellen Stellen. Es ist in der Lage, sowohl Form und Bänderdefekte für große als auch kleine Merkmale zu erkennen. Die unübertroffene Gleichmäßigkeit der Beleuchtung im Dunkelfeld-Modus von TENCOR P 2 hemmt die Leckage des Hintergrundsignals auf dem Wafer und sorgt für den höchsten Erkennungsdurchsatz und den höchstmöglichen Bildkontrast. Es verfügt auch über 4x bis 128x Mapping-Fähigkeiten sowie MTF-Messungen, um die genaueste Charakterisierung des Wafers zu ermöglichen. Darüber hinaus hat KLA/TENCOR P 2 als moderne Wafer-Prüf- und Messtechnik-Maschine die Fähigkeit, Dickenmessungen durchzuführen, ohne die elektrischen Eigenschaften des Geräts zu beeinflussen. Darüber hinaus besteht das Tool aus einer ergonomischen Benutzeroberfläche (EUI). EUI ermöglicht eine einfachere und automatisierte Datenkonvertierung und -analyse sowie eine vereinfachte Bedienung und Steuerung der Geräte. Darüber hinaus verfügt TENCOR P-2 über eine Reihe integrierter Werkzeuge, die bei der effizienten Analyse des Wafers und seiner Komponenten helfen sollen. Die wichtigsten davon sind der Autofokus, die Wafernähte, die Partikelerkennung sowie die Fehlerklassifizierungsalgorithmen. TENCOR P2 ist ein hochwertiges Wafer-Prüf- und Messtechnik-System in der Halbleiterindustrie. Die Kombination aus überlegenen Mess- und Erkennungsfunktionen, automatisierter Datenkonvertierung und -analyse sowie leistungsstarken Steuerungswerkzeugen ermöglicht es Benutzern, ihre Wafer mit höchster Präzision und Genauigkeit zu betrachten, zu inspizieren und zu analysieren.