Gebraucht KLA / TENCOR P2 #9291906 zu verkaufen

KLA/TENCOR P2 ist eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik, die sowohl für Waferkanten- als auch für Mittelmessungen entwickelt wurde. Itprovides Anwender mit einer automatisierten Lösung für messtechnische Informationsverarbeitung, wie Wafer-Oberflächeninspektion, Wafer-Defekt-Analyse, Wafer-Form-Messungen, und Wafer-Material-Verifizierung. Das System verwendet eine fortschrittliche laserbasierte Waferkantenerkennungseinheit, die fortschrittliche Wafer-Messtechnik (AWM), um die Waferkantenposition genau zu überwachen, Abweichungen in der Form oder Geometrie zu erkennen und Änderungen der Kanteneigenschaften des Wafers zu quantifizieren. Es integriert auch fortschrittliche Lichtquellen-Messtechnik, um die Oberflächentopographie des Wafers zu überprüfen und zu messen. Als Teil der Maschine werden ein Infrarotlaser und eine Bildaufnahmekamera verwendet, um Schwankungen in der Oberflächenmaterialzusammensetzung zu erkennen und Defekte wie Kratzer und Oberflächenfehler zu erkennen. Zusätzliche messtechnische Informationen, die vom Werkzeug abgeleitet werden, umfassen Metalllinien- und 3D-Profil-Prozesssteuerdaten, Informationen zur Wafer-Sauberkeit, Messungen der Wafer-Ebenheit, Kartierung der Oberflächeneigenschaften und Inspektion der Oberflächenrauhigkeit. Auf diese Weise können Anwender einen umfassenden Datensatz des Wafer-Herstellungsprozesses einschließlich seiner Ertragsleistung erhalten. Neben der Erkennung von Oberflächenfehlern integriert das Asset auch eine Reihe anderer Algorithmen zur Messung der Waferform in drei Dimensionen. Dies ermöglicht es Benutzern, Unterschiede in Form und Abmessungen von Wafern genau zu quantifizieren und metrische Daten aus den gemessenen Wafern zu erzeugen, wie Planheit, Verformung von Waferkanten sowie Querschnittsfläche. Das Modell profitiert zudem von einer integrierten grafischen Benutzeroberfläche zur Visualisierung von Echtzeitmessungen. Dies ermöglicht es Anwendern, aktuelle Testdaten schnell einzusehen sowie vergangene Daten zu überprüfen und einen vollständigen Einblick in die Geräteleistung zu erhalten. Das System ist auch mit verschiedenen Datenausgabeformaten kompatibel, was einen einfachen Datenaustausch und die Zusammenarbeit zwischen verschiedenen Maschinen ermöglicht. Abschließend ist KLA P-2 eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik-Einheit, die Anwendern eine benutzerfreundliche, automatisierte Lösung zur genauen Überwachung von Waferoberfläche und -form sowie zur Ableitung von Prozesskontrolldaten bietet. Es bietet einen unschätzbaren Einblick in den aktuellen Status der Wafer-Fertigungsprozesse und hilft Anwendern, Fehler zu reduzieren und die Qualitätskontrolle sicherzustellen.