Gebraucht KLA / TENCOR P22H #9214889 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9214889
Wafergröße: 8"
Automated surface profilometer, 8"
Open cassette
Handler with wafer pre-aligner
Computer
Operating system: Windows 3.11 / Windows NT.
KLA/TENCOR P22H System ist ein leistungsstarkes Werkzeug für Wafertests und Messtechnik. Es ist ein Mitglied der KLA-Familie von automatisierten Wafer-Inspektionsgeräten, die in der Halbleiterindustrie verwendet wird. KLA P22 H ist in der Lage, Wafer mit Abmessungen von 8 "bis 200 mm zu inspizieren und zu messen. Das Gerät ist mit 6 Bearbeitungsstationen ausgestattet, die eine Kombination aus Inspektions- und Messtechnik bieten, die optische, mechanische und elektrische Funktionen umfasst. Das Design von TENCOR P-22H konzentriert sich auf Hochdurchsatz- und Präzisionsmessungen mit fortschrittlicher Merkmalserkennung und -klassifizierung für eine Reihe von Produkten. Seine Optik enthält zwei große Blende Full-Field-of-View (FFV) CCD-Kameras, zusammen mit einer Vielzahl von LED-Lichtquellen und spezialisierte Optik. P-22H bietet Bildgebungsfähigkeit wie hochauflösendes helles Feld (BF), Dunkelfeld (DF), Mehrzonen-helles Feld (MZBF) und Zeilenscan. Dies ermöglicht die Überprüfung kleiner Features mit hohem Seitenverhältnis, was für viele Anwendungen ein großer Vorteil ist. Darüber hinaus ermöglicht der Zeilenabtastmodus eine zerstörungsfreie Inspektion von optisch programmierbaren phasenverschobenen Gittern, Niederspannungsmaterialien und austretenden Materialien. Das Instrument ist zudem mit der revolutionären Adaptive Scanning Architecture (ASA) ausgestattet, einem vielseitigen Mustererkennungssystem. Auf diese Weise können Wafer-Muster auch bei Seitenverhältnisunterschieden, die durch Prozessgleichförmigkeit verursacht werden, genau überprüft werden. Darüber hinaus bietet KLA P-22H eine beeindruckende 0,2-nm-Auflösung der Messung und einen integrierten Fokus-Algorithmus, der außerdem eine hohe Genauigkeit der Daten gewährleistet. So können Kunden hochpräzise Bauteile ohne manuelle Anpassung sicher messen. Verbesserter Durchsatz und Wiederholbarkeit werden durch große Motoren gewährleistet, die die Wafer mit Geschwindigkeit und Genauigkeit von Station zu Station bewegen. Letztlich ist P22 H ein fachmännisch konzipiertes System zur Durchführung von Wafertests und Messtechnik. Mit seinen fortschrittlichen Bildgebungs- und Messfähigkeiten und der adaptiven Scanarchitektur bietet KLA/TENCOR P22 H eine beeindruckende Leistung, die den strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird.
Es liegen noch keine Bewertungen vor