Gebraucht KLA / TENCOR P22H #9411708 zu verkaufen

KLA/TENCOR P22H ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung zur Inspektion und Prozesssteuerung von Halbleiterbauelementen. Es kombiniert ausgefeilte Algorithmen mit hochentwickelten automatisierten Inspektionstechnologien für eine schnelle und genaue Waferproduktion. Das KLA P22 H-System bietet mit seinem hochauflösenden bildgebenden Spektrometer und Mikroskop die Möglichkeit, Prozessdefekte auf gemusterten und nicht gemusterten Substraten zu scannen und zu erkennen. Mehrere Lichtquellen unterschiedlicher Wellenlängen ermöglichen es dem Gerät, verschiedene optische Inspektionstechniken zur verbesserten Erkennung von Verunreinigungen auf den Wafern anzuwenden. Inspizierte Substrate werden dann nach vorgegebenen Kriterien ausgewertet, um eventuelle Unregelmäßigkeiten oder Defekte in Form von lithographischen, topographischen oder Ätzfehlern, Materialabdeckung oder schlechter Merkmalsanordnung zu erkennen. Die Maschine bietet zudem die Möglichkeit, den kumulativen Verschleiß kritischer Prozessparameter zu überwachen und sorgt so für hohe Prozess- und Produktstabilität. TENCOR P-22H verfügt über einen 3D-Multisensor-Autofokus für die Luft- und Raumfahrt, um sicherzustellen, dass jede geprüfte Waferoberfläche optimal auf das optische Abbildungswerkzeug fokussiert ist. Durch die Verwendung dieses Autofokus-Assets kann sichergestellt werden, dass die Bildqualität von konsistenter Qualität ist, was zu einer verbesserten Genauigkeit und Datengenauigkeit des geprüften Materials führt. Das Modell bietet auch schnelle und genaue Messungen von kleinen Merkmalen auf Halbleitern. Die hochwertige optische Bildgebungsausrüstung ermöglicht eine schnelle Abbildung von Mustern auf der Waferoberfläche. Dieses System ist ideal für hochauflösende Anwendungen wie Tiefen-, Flächen- und Volumenmessungen in Schaltungen, Kontaktlöchern, Leitungsverengungen und anderen speziellen Teststellen. KLA/TENCOR P-22H Wafer-Prüf- und Messtechnik-Einheit ist die ideale Lösung, um die Qualität zu verbessern und die Kosten in der Halbleiterindustrie zu senken. Durch die Kombination ausgeklügelter Algorithmen mit fortschrittlicher automatisierter Inspektionstechnologie bietet es die beste Kombination aus Genauigkeit und Geschwindigkeit für eine optimale Waferproduktion.