Gebraucht KLA / TENCOR P2H #293758331 zu verkaufen

KLA/TENCOR P2H ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die vielseitige automatisierte, präzise Messtechnik und Fehlererkennungslösungen bietet. Das System bietet eine breite Palette von Möglichkeiten zur Messung von Varianzen der Formgröße und -form sowie zur Charakterisierung von Defekten auf Wafern jeder Größe. Das Gerät verwendet eine Hochgeschwindigkeitsstufe und ein Mikroskop, kombiniert mit einer leistungsstarken Bildanalysesoftware, um schnelle und genaue Wafermessungen mit einer besten Bildauflösung zu ermöglichen. Die KLA- P-2H verfügt über eine Hyper Accurate Heading (HAH) -Maschine, die die kritische Ausrichtung des Sichtfeldes des Mikroskops auf die Rotation des Wafers für eine verbesserte Genauigkeit und Geschwindigkeit ermöglicht. Die Hochgeschwindigkeits-Datenerfassung des Tools ermöglicht die Echtzeit-Bilderfassung und -analyse und ermöglicht eine schnelle, genaue Inspektion und Messung der Wafer. TENCOR P 2H Asset umfasst mehrere Schlüsseltechnologien und Funktionen, die es ermöglichen, seine automatisierten Funktionen auszuführen. Dazu gehören ein großes Sichtfeld-Laser- und Sensormodell, eine hochauflösende CCD-Kamera, ein Encoder für Präzisionsmesstechnik und ein Hochleistungs-Optikmodul, das überlegene Anzeigefunktionen bietet. Die Ausrüstung ist auf robuste Konstruktionsanforderungen ausgelegt, so dass sie in der Lage ist, große Wafer und Muster verschiedener Formen und Größen zu handhaben, sowie ein temperaturgesteuertes optisches System und eine Schwingungsdämpfung anzubieten. Darüber hinaus bietet das Gerät mehrere Modusinspektions- und Analysefunktionen wie differentielle Kontrastabbildungen, Farbabbildungen und Rückseiteninspektionen, die es der Maschine ermöglichen, Fehler an den Außenkanten des Wafers zu erkennen. Die fortschrittliche automatische Ausrichtungsroutine des Tools nutzt das Hyper Accurate Heading-Asset, das sicherstellt, dass das Sichtfeld des Mikroskops korrekt auf den zu analysierenden Wafer ausgerichtet ist. Das KLA P 2 H-Modell bietet zudem eine einzigartige Fehlerüberprüfungsfunktion, die es den Betreibern ermöglicht, die identifizierten Fehler schnell zu überprüfen und zu genehmigen sowie eine Batch-Überwachungsfunktion, die die Probe während des gesamten Prozesses automatisch verfolgt. Darüber hinaus umfasst die Ausrüstung eine patentierte Filtertechnologie, um Audiogeräusche und Staubpartikel zu blockieren und eine hohe Genauigkeit in der automatisierten Prüfung und Messtechnik zu ermöglichen. Insgesamt ist KLA P 2H Wafer Testing and Metrology System eine leistungsstarke, vielseitige Einheit, die schnelle, genaue und zuverlässige automatisierte Inspektion und Analyse von Defekten auf Wafern jeder Größe bietet. Das Hyper Accurate Heading-Tool der Maschine sorgt für eine kritische Ausrichtung des Sichtfelds des Mikroskops für verbesserte Genauigkeit und Geschwindigkeit, und seine fortschrittliche automatische Ausrichtungsroutine und Fehlerprüfungsfunktion bieten zusätzliche Vorteile für den Bediener. Die patentierte Filtertechnologie der Anlage sorgt für genaue Ergebnisse, indem sie Audiogeräusche und Staubpartikel blockiert und damit das ideale Modell für automatisierte Wafertests und Messtechnik ist.