Gebraucht KLA / TENCOR P2H #9093855 zu verkaufen

KLA / TENCOR P2H
ID: 9093855
Long scan profiler, 254 x 254 mm Measures: Roughness, Waviness, Topography (TIR, Height, Average height) Scan length: 210 mm Scan speed: 1 um/sec to 25 mm/s Scan method: moving stage, stationary stylus Stylus control: Programmable force: 1-100 mg ± 0.1 mg Full retract between scans Programmable descent rate Measurement control: Manual / Single scan mode Keylock with (3) modes Repeat and average mode Automatic sequence mode Sample handling: Motorized XY Max sample size: 254 x 253 mm Sampling rate: 50, 100, 200/s nominal Vertical range: ±6.5 um at 1A resolution, ±150 um at 25A resolution Vertical linearity, entire range: ±0.5% Horizontal resolution: 0.01 um at 1 um/sec scan speed Step height repeatability: 13 um range: 0.001 um (10A) max standard deviation 300 um range: 0.005 um (50A) max standard deviation Base line stability: Time: 0.02 um (200A) max TIR for a 100-s scan Distance: 0.2 um (2000A) max TIR on a profile length of 130 um verified on a 1/20 optical flat Data storage: HD: 40 MB Diskette: 1.4 MB on 3.5" Disk DOS operating system Tencor P-2 Program Recipes Data Analysis: Interactive graph Delta Average mode Zoom box data expansion Data catalog Database manager option Metric or English units.
KLA/TENCOR P2H ist eine hochmoderne, vollständig integrierte Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die die strengsten industriellen Spezifikationen und Anforderungen der Branche übertrifft. Es ist in der Lage, Wafergrößen bis 200 mm Durchmesser aufzunehmen, während seine fortschrittliche Automatisierungssoftware und unabhängige Teilsysteme es zu einer idealen Lösung für Labore und Fabriken machen, die mehrere Gerätetechnologien herstellen. Angetrieben wird das System von vier Komponenten - der Data Acquisition Unit (DAS), der Inspection Machine (IS), dem Metrology Tool und dem Total Measurement Asset (TMS). Das DAS ist ein automatisiertes Datenerfassungsmodell, das Leistungsparameter und Testausgänge von Halbleiterbauelementen und Schnittstellen zu den anderen Komponenten des Geräts erfasst. Das IS ist ein leistungsfähiges automatisiertes Inspektionssystem, das eine schnelle, spezifikationskonforme Bildanalyse und Charakterisierung der zu prüfenden Geräte ermöglicht. Es bietet auch verschiedene Bildauswertungen wie Detektion, Klassifizierung, Messung, Mustererkennung und Kolorierung. Die Metrologie Unit ist eine umfassende messtechnische Lösung für Gerätemaßmessungen, elektrische Parameter, Fehlercharakterisierung und Fehleranalyse. Es bietet erweiterte analytische Funktionen, um eine Vielzahl von Parametern und Materialattributen genau zu messen. Das TMS ermöglicht ein umfassendes Management der von den verschiedenen Teilsystemen gesammelten Daten und ermöglicht es Anwendern, die Waferqualität und die Gesamtgerätecharakteristik schnell zu beurteilen. KLA P-2H verfügt über die neueste Wafer-Prüftechnologie mit integrierter Hardware, Software und Systemen, die die Genauigkeit und Wiederholbarkeit maximieren und die maximale Produktivität gewährleisten. Alle Systeme sind in einem optimierten Format integriert, was die Geschwindigkeit und Genauigkeit der Datenerfassung und -analyse erhöht und gleichzeitig die Zykluszeit insgesamt reduziert. Es ist auch mit modernsten Methoden zur Qualitätsdefekterkennung, automatischen Tuning-Techniken für optimale Ergebnisse und statistischen Qualitätskontrollprozessen ausgestattet, um vertrauenswürdige Ergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus ist die TENCOR P 2H-Maschine benutzerfreundlich gestaltet und verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche, eine vollständige Kontrolle der verschiedenen Teilsysteme und Komponenten sowie eine Live-Überwachungseinrichtung zur Anzeige des Leistungsfortschritts. Sicherheitskontrollen und Datenschutzprotokolle sind auch für den sicheren Betrieb vorhanden. TENCOR P 2 H ist ein geeignetes Werkzeug sowohl für Prototypen als auch für Serien-Wafer-Testumgebungen mit maximaler Leistung, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit. Mit seinem umfassenden Spektrum an messtechnischen und bildanalytischen Funktionen, seinem benutzerfreundlichen Design und seiner Fähigkeit, die Fertigungszeit deutlich zu reduzieren, ist es ein ideales Werkzeug für jedes moderne Halbleiterlabor oder Fab.
Es liegen noch keine Bewertungen vor