Gebraucht KLA / TENCOR / PROMETRIX 6200 Surfscan #163303 zu verkaufen

KLA/TENCOR/PROMETRIX 6200 Surfscan ist eine hochpräzise Plattform für automatisierte Wafertests und Messtechnik. KLA 6200 Surfscan-Geräte ermöglichen eine automatisierte Echtzeitmessung von Topographie, Dünnschichtdicke und Defekten in Halbleiterscheiben und Substraten. TENCOR 6200 Surfscan System ist mit einem erweiterten CCD-Sensor ausgestattet, der präzise 3D-topographische Bilder eines Halbleiterwafers aufnehmen kann. Es kann Probentopographie für genaue Dünnschichtdickenmessungen und Fehlercharakterisierung messen. Die präzise Steuerung des Scankopfes und der Software-Algorithmen sorgen für präzise und zuverlässige Messungen. Die Surfscan-Maschine PROMETRIX 6200 ist in der Lage, verschiedene Waferstrukturen und Schichten zu messen, darunter Metallvias, große Pitch-Verbindungen und andere komplexe Strukturen mit einem maximalen Scanfeld von bis zu 13mm. Das Werkzeug ist auch in der Lage, wellenlängenabhängige Eigenschaften von dünnen Filmen mit einem maximalen Messbereich von 50nm - 10mm zu messen. Darüber hinaus verfügt 6200 Surfscan Asset über eine automatisierte Fehleranalyse-Bibliothek, die komplexe Fehler wie Verschiebungen, Stapelfehler und Threading-Schleifen erkennen kann. Die Software kann Fehler schnell erkennen und klassifizieren, sodass Benutzer die Fehlerstruktur des Wafers schnell analysieren können. Darüber hinaus ist das Modell KLA/TENCOR/PROMETRIX 6200 Surfscan für die Online-Echtzeit-Wafer-Charakterisierung konzipiert, was bedeutet, dass subtile Änderungen in der Waferstruktur schnell erkannt und klassifiziert werden können. Es verfügt auch über eine ausgewogene Feldbeleuchtung mit einer hochauflösenden Stufe integriert, um Präzision und Genauigkeit für jeden Scan zu gewährleisten. Schließlich bietet das Surfscan-System KLA 6200 mit einer Scangeschwindigkeit von 3 nm/s einen hohen Durchsatz für automatische Wafertests und Messtechnik. Es verfügt über eine Reihe von Automatisierungsoptionen, die die Zeit und Komplexität der Wafer-Charakterisierung reduzieren können, so dass es eine ideale Wahl für Halbleiterprozesse, die hochpräzise Messungen erfordern.