Gebraucht KLA / TENCOR / PROMETRIX Omnimap RS-55TCA #9261757 zu verkaufen

KLA/TENCOR/PROMETRIX Omnimap RS-55TCA Wafer Testing and Metrology Equipment wurde entwickelt, um eine umfassende fehlerphysikalische Charakterisierung und Analyse für Halbleiterhersteller bereitzustellen. Es integriert mehrere Technologien in ein einheitliches System, um Wafer-Messtechnik-Prozesse sowohl für Produktions- als auch für Forschungsanwendungen zu adressieren. Zu den Hauptmerkmalen der Einheit gehören: Tapping AFM (Atomic Force Microscopy): Ermöglicht die Bildgebung und Echtzeit-Messung von Nanostrukturen auf der Waferoberfläche mit hoher Auflösung. RS-50 Raster: Bietet hohe Geschwindigkeit, berührungslose Messtechnik der gesamten Waferoberfläche, einschließlich des Substrats, Kontaktpads und anderer Merkmale. STARFISH Edge Detection Machine: Erkennt automatisch Waferkanten, um präzise Ausrichtungsinformationen für nachfolgende Bildgebungs- und Messvorgänge bereitzustellen. Lateral Force Microscopy (LFM): Ermöglicht eine Echtzeit-Abbildung der Kräfte zwischen einer Sondenspitze und der Waferoberfläche mit einer Auflösung von 1 Nanometer oder weniger. Koaxiale Sondenabtastung: Gekoppelt mit LFM ermöglicht diese Funktion die Steuerung der Sondenspitzenablenkung, um eine präzise Topographiekarte zu erzeugen. FPD-JV1010 Verformbarer Spiegel: Wird verwendet, um den Einfallswinkel eines fokussierten optischen Strahls in Echtzeit zu steuern. Dies ermöglicht eine gleichzeitige Hochgeschwindigkeitsbildgebung in mehreren Richtungen. Elektrostatisches Kraftmikroskop (EFM): Ermöglicht nanoskalige Bildgebung und Oberflächenanalyse im berührungslosen Modus. „Wafer Level“ Fluidic Tool: Durch die Einstellung von Vakuum und Druck, sowie Klappenventile, ermöglicht diese Ressource volle Abstandsregelung der Flüssigkeitsstände. Damit werden Fluide, wie polarisierende Lösungen oder Marker enthaltende Flüssigkeiten, exakt auf die Waferoberfläche abgegeben. VME Computer Based Data Acquisition & Control Model: Basierend auf einer industriellen VME-Architektur ermöglicht dieser Computer die Echtzeitkontrolle über Instrumentenbetriebe sowie die Datenerfassung. Diese Wafer-Prüf- und Messtechnik bietet eine vielseitige, präzise und leistungsstarke Plattform für eine Vielzahl von Charakterisierungsanforderungen. Die KLA OMNIMAP RS-55/TCA eignet sich sowohl für Produktions- als auch für Forschungsanwendungen mit ihren fortgeschrittenen bildgebenden Funktionen und ihren vielfältigen Analysemöglichkeiten.