Gebraucht KLA / TENCOR / PROMETRIX P-20H #9212478 zu verkaufen

KLA/TENCOR/PROMETRIX P-20H Wafer Testing and Metrology Equipment bietet eine effiziente und genaue Prüfung und Messtechnik von Wafern für Produktions- und Forschungsanwendungen. Dieses fortschrittliche System besteht aus einer Reihe von Komponenten zur Messung von Wafern, einschließlich einer Prüfstufe, einer Messeinheit und einer Ausrichtungsmaschine. Der Abschnitt Prüfstufe des Werkzeugs ist für die Prüfung und Analyse von Wafern verschiedener Größen, Formen und zwischen 100 - 500 Mikrometer Dicke ausgelegt. Die Bühne umfasst eine Vakuumanlage mit einem Betätigungs- und Bedienfeld und einem manuell betätigten X-Y-Übersetzer. Es kann bis zu 6 Wafer aufnehmen und bietet eine höhenverstellbare Plattform zum Halten von Stücken auf der Bühne. Die Wafer können einzeln oder gleichzeitig mit dem im Hintergrund ablaufenden Prüfprogramm gemessen werden. Das Messmodell umfasst ein Laserinterferometer, Positionssensoren und Wafer-Tracking-Software für hochauflösende Bildgebungs- und Messfähigkeiten. Die Messeinrichtung ist mit der Waferstufe gekoppelt, um Präzisionsmessungen der Oberflächentopographie und -konfiguration des Wafers vorzunehmen. Zusätzlich kann die Wafer-Tracking-Software Fehler erkennen, Wafer-kritische Abmessungen messen und Änderungen der Waferdicke verfolgen. Schließlich besteht das Alignment System aus zwei Komponenten: einer laserdiodenbasierten Projektionseinheit und einer hochpräzisen Videokamera. Die Kamera ermöglicht eine präzise Ausrichtung der Laserdiode auf die Waferoberfläche, um die Waferoberfläche genau zu messen und zu inspizieren. Es hat auch die Fähigkeit, alle Ausrichtungsfehler zu korrigieren, die durch Bewegungen innerhalb des Wafers auftreten können. KLA P-20H Wafer Testing and Metrology Machine ist ein fortschrittliches Werkzeug für die genaue und effiziente Prüfung und Messtechnik von Wafern. Es kann präzise Messungen der Oberflächentopographie des Wafers liefern, Fehler erkennen, kritische Abmessungen messen und Änderungen der Waferdicke verfolgen. Das erweiterte Alignment Asset kann auch alle Ausrichtungsfehler korrigieren, die aufgrund von Bewegungen innerhalb des Wafers auftreten können. Dieses Modell ist ideal für Produktions- und Forschungsanwendungen.