Gebraucht KLA / TENCOR / PROMETRIX UV 1050 #293600853 zu verkaufen

ID: 293600853
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2005
Film thickness measurement system, 8" 2005 vintage.
KLA/TENCOR/PROMETRIX UV 1050 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik für Halbleiterhersteller, die Qualitätskontrolle und Prozessüberwachung für Photolithographie- und Wafer-Prüfverfahren benötigen. Es kombiniert Funktionen für automatisierte Messtechnik, Fehlerüberprüfung und Ertragsanalyse in einer einzigen Plattform und bietet eine umfassende Lösung für Prozessentwicklungs- und Qualitätskontrollanwendungen. KLA UV 1050 verwendet Lasertechnologie und ein patentiertes Laser-Autofokus-System, um kritische Abmessungen mit überlegener Genauigkeit und Teil-zu-Teil-Wiederholbarkeit zu messen. Es enthält spektrophotometrische Analysen für präzise Farbmessungen und ist in der Lage, kleinere Reflexionsunterschiede zu detektieren. Darüber hinaus hat die Einheit die Fähigkeit, Merkmale bis hin zu kleinen Geometrien und großen Abständen mit einer hohen Genauigkeit zu messen. TENCOR UV-1050 verfügt auch über eine erweiterte Benutzeroberfläche, die eine einfach zu bedienende Dateneingabemaschine und eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) bietet, die eine schnelle Bedienung erleichtert. Dieses Tool reduziert die Messzeit und beseitigt Fehler im Zusammenhang mit der manuellen Dateneingabe. Darüber hinaus verfügt das Asset über leistungsstarke Fehlerüberprüfungsfunktionen, sodass Betreiber detaillierte Fehlerberichte erstellen und Variationen im Wafer schnell identifizieren können. PROMETRIX UV 1050 ist eine kostengünstige Alternative zu herkömmlichen teuren Einwellenlängensystemen, die eine erweiterte Leistung und vereinfachte Wartung bietet. Darüber hinaus kann es in externe Systeme integriert werden, was eine automatische Ausrichtung und Fokussierung sowie eine langfristige Prozessüberwachung und -analyse ermöglicht. Es ist mit einem fortschrittlichen Extraktionsalgorithmus ausgestattet, der eine Echtzeitanalyse von Motiven und Spezialformen ermöglicht. Zusätzlich zu seinen Wafer-Prüf- und Messtechnik-Funktionen wurde das Modell entwickelt, um Überlagerungen zu erleichtern und E-Strahl-Inspektionsmöglichkeiten bereitzustellen. Es bietet eine ausgeklügelte In-situ-Analyse zur Identifizierung und Diagnose von Prozessvariationen im Zusammenhang mit der Overlay-Performance. Dieses Merkmal trägt zur Gewährleistung der Qualität von Bauelement-Substrat-Wechselwirkungen und der Gesamtgenauigkeit des Halbleiterbauelements bei. All diese Funktionen, kombiniert mit den Hochgeschwindigkeits-Scanfunktionen von UV 1050, ermöglichen es Anwendungen, die High-End-Leistung erfordern, schnell, präzise und kostengünstig abzuschließen. Sie machen KLA UV-1050 zu einer idealen Wahl für alle, die zuverlässige und präzise Wafer-Prüf- und Messtechnik-Lösungen suchen.
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