Gebraucht KLA / TENCOR / PROMETRIX UV 1050 #9172589 zu verkaufen

KLA/TENCOR/PROMETRIX UV 1050 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung für den Sub-Mikron-Nanometer-Bereich. Das System verfügt über eine hochauflösende Abbildungseinheit zur Fehlererkennung auf Wafern. Die schnellen Scangeschwindigkeiten und die Multithread-Scanarchitektur machen es ideal für die genaue Erkennung von Fehlern in anspruchsvollen Produktionsumgebungen. Unter Verwendung einer ultravioletten (UV) Lichtquelle verfügt die 1050 auch über präzise Mustererkennungsfunktionen, um komplexe Muster zu identifizieren, die auf Defekte hinweisen können. KLA UV 1050 hat einen modularen Aufbau mit anpassungsfähigen Teilen und Komponenten. Die Kernkomponenten bestehen aus Bühne, Kamera, Beleuchtung und Software-Steuerung. Die Stufe verwendet eine genaue und wiederholbare Abtastbewegung, um hochauflösende Abbildungen mit präziser Bildausrichtung zu ermöglichen. Die Kamera erfasst Submikron-Bilddaten, die dann mit dem Bordsoftwarepaket verarbeitet werden. Das Beleuchtungswerkzeug ermöglicht es dem 950, Fehler sowohl bei der On-Achs- als auch bei der Off-Axis-Beleuchtung zu erkennen. Neben der hochauflösenden Bildgebung und Mustererkennung verfügt TENCOR UV-1050 über mehrere weitere Funktionen. Es umfasst Wafer-zu-Wafer- und Die-zu-Die-Vergleichsmöglichkeiten zur Erkennung prozess- und messtechnisch bedingter Defekte. Es kann auch Waferdickenmessung, Waferkantenerkennung und Muster-Overlay-Kontrollen durchführen, um Gleichmäßigkeit über eine Reihe von Substraten sicherzustellen. UV-1050 können mit externen Werkzeugen wie PC oder Laptop oder mit einem integrierten Steuergerät gesteuert werden. Dank seiner vielseitigen Leistung ist es ideal für den Einsatz in Forschungs- und Produktionsumgebungen. Die umfassende Spezifikationsliste umfasst langfristige Zuverlässigkeit, flexiblen Durchsatz und minimale Hardwareanforderungen. Im Vergleich zu herkömmlichen Inspektionsmethoden bietet das Modell sowohl Zeit- als auch Kosteneinsparungen. PROMETRIX UV-1050 ist eine leistungsstarke Wafer-Prüf- und Messtechnik, die zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse in einer Vielzahl von Anwendungen liefert. Es ist sehr anpassbar und kann an eine Reihe von Substraten und Größen angepasst werden. Dank der Flexibilität, Effizienz und fortschrittlichen bildgebenden Funktionen ist das System das perfekte Werkzeug für die effiziente Inspektion und Charakterisierung anspruchsvoller Wafersubstrate.