Gebraucht KLA / TENCOR SFS 6420 #293821383 zu verkaufen
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KLA/TENCOR SFS 6420 ist eine leistungsstarke Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist ein kleines System, das für mehr Effizienz und Zuverlässigkeit entwickelt wurde. Es ermöglicht die vollständige integrierte Messung und Prüfung von Wafern mit einer ganzen Reihe von topographischen Prozessen. Die KLA SFS 6420 basiert auf fortschrittlichen Laserscantechniken und ist in der Lage, eine enge Messgenauigkeit über den gesamten Prozess in einem einzigen Lauf zu liefern. Es weist einen zweidimensionalen Strahl auf, der die Topographie der Waferoberfläche misst. Die Daten dieser integrierten Einheit werden an eine ausgeklügelte Software zur Echtzeitanalyse und -berichterstattung weitergeleitet. Ein automatisierter Algorithmus identifiziert nicht spezifizierte Prozesse, so dass der Bediener präventiv in Echtzeit handeln kann. TENCOR SFS 6420 verfügt über eine integrierte Vollfeld-optische Maschine, die den gesamten Wafer gleichzeitig mit einem Dual-Laser-Kontrast scannt. Dieses Tool wird mit einer einzigartigen integrierten XY-Targeting-Plattform kombiniert, die Genauigkeit und Wiederholbarkeit in der Messung gewährleistet. Es ist in der Lage, Wafer in 5 x 2 mm Schritten zu scannen und hohe Auflösungen von bis zu 0,25 μ m zu erzielen. SFS 6420 verfügt auch über eine Reihe von ausfallsicheren Funktionen, um sicherzustellen, dass das Asset reibungslos läuft. Fortschrittliche Temperaturstabilisierung hält die Leistung des Modells optimal, während eine patentierte zweistufige Folienhöhenabbildung vor mechanischen und elektronischen Fehlern schützt. Es gibt auch integrierte Sicherheitsfunktionen, die unbefugten Zugriff auf seine Daten oder Komponenten verhindern. Abschließend ist KLA/TENCOR SFS 6420 eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die auf verbesserte Effizienz und Zuverlässigkeit ausgelegt ist. Es ist eine ideale Wahl für die Halbleiterindustrie und bietet ein integriertes Vollfeld-optisches System mit einem doppelten Laserkontrast, enger Messgenauigkeit und einer Reihe von ausfallsicheren Funktionen.
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