Gebraucht KLA / TENCOR SFX 100 #293761851 zu verkaufen

KLA / TENCOR SFX 100
ID: 293761851
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Thickness measurement system, 12" 2007 vintage.
KLA/TENCOR SFX 100 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die hochgenaue Ergebnisse für den Silizium-Wafer-Herstellungsprozess liefert. Es wurde entwickelt, um eine breite Palette von Silizium-Wafer-Parametern schnell und präzise zu analysieren, was ein schnelles und effizientes Qualitätskontrollmanagement ermöglicht. Die Hauptkomponenten von KLA SFX 100 sind das achromatische Auto/manuelle Ausrichtsystem, der Auto/manuelle Ausrichtungsprozessor und das Auto-Ausrichtmikroskop. Die achromatische Einheit verwendet zwei einander zugewandte CCD-Kameras, um eine präzise Ausrichtung des Wafers innerhalb der Sichtfelder des Instruments zu ermöglichen. Die Maschine ist auch mit einem Auto-Aligner-Modul ausgestattet, das einen Algorithmus verwendet, um die Musterpunkte eines Wafers für eine präzise Ausrichtung in weniger als einer Sekunde zu lokalisieren, zu identifizieren und zu verfolgen. TENCOR SFX 100 verfügt über ein leistungsstarkes optisches Werkzeug, das automatische Wafermessungen ermöglicht und sowohl manuelle als auch automatisierte messtechnische Funktionen bietet. Das Asset kann eine breite Palette von Parametern messen, einschließlich Würfeln/Ätzen, Spitzen-Oberflächenrauhigkeit und Linienbreite, mit einer Genauigkeit von bis zu 0,5 Nanometern, sowie Schichten aus Photoresist/Ätzmaterial und anderen Merkmalen. SFX 100 ist auch in der Lage, Wafer-für-Wafer-Optimierung, um sicherzustellen, dass Batch-Verarbeitung ist so effizient wie möglich. Dies geschieht durch den Einbau eines Feedback-Modells mit geschlossenem Regelkreis, das es dem Benutzer ermöglicht, die erforderlichen Anpassungen der Waferparameter sofort vorzunehmen, sobald sie gemessen wurden. Dies hilft, den Zeitaufwand für herkömmliche Overhead-Operationen wie das Kalibrieren und Optimieren der Ausrüstung beim Ausführen eines Experiments zu reduzieren. Darüber hinaus kann KLA/TENCOR SFX 100 mit einem hochpräzisen Laserinterferometer die Wafergeometrie überprüfen. Es kann eine breite Palette kritischer geometrischer und dimensionaler Parameter genau messen, einschließlich Linienbreiten, KE-Höhen, Eckenradien und Nichtlinearitätsverteilungen. Insgesamt ist KLA SFX 100 ein fortschrittliches Wafer-Prüf- und Messtechnikinstrument, ideal für die Halbleiterherstellung. Es bietet eine effiziente Messung einer Vielzahl kritischer Parameter mit hoher Präzision und Genauigkeit. Die automatisierten und manuellen Ausrichtungslösungen des Systems garantieren, dass jeder Wafer genau im Sichtfeld des Instruments positioniert ist. Darüber hinaus ermöglichen das hochpräzise Laserinterferometer und die Rückkopplungseinheit des TENCOR SFX 100 dem Benutzer, die Parameter des Wafers schnell und effizient anzupassen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor