Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #293634793 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 293634793
Weinlese: 1997
Film thickness measurement system Missing parts: Robot and controller 1997 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die hauptsächlich für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Das System bietet simultane messtechnische Messungen an bis zu 12 Wafer-Standorten parallel, was einen maximalen Durchsatz auf kleiner Fläche ermöglicht. Die Einheit ist in der Lage, eine breite Palette von Messungen durchzuführen, einschließlich Stufenprofil, Zeilenabtastung, elektrische Leckage, Kapazität und Widerstand. Die Software der Maschine ist benutzerfreundlich und ermöglicht anpassbare Bildschirme, so dass sie einfach eingerichtet und verwendet werden kann. Die KLA OP 2600 ist in die KLA 2D Inspektionssoftware integriert, die darüber hinaus hervorragende Datenerfassungs- und Analysefunktionen bietet. Darüber hinaus ist das Werkzeug auf die Einhaltung von branchenüblichen Qualitätsprozessen ausgelegt und eignet sich somit für den Einsatz in Front-End- und Back-End-Produktionsprozessen. Die Anlage wird von TENCOR High-Speed-FlexTech-Erkennungsmodell angetrieben, das eine patentierte laserbasierte Plattform verwendet, um Wafer-Funktionen und -Fehler genau zu erkennen. Auf diese Weise kann das Gerät Merkmale bis zu 25 Nanometer messen. Das System verfügt außerdem über einen optischen 6-Punkt-Detektor und ein Präzisionsmikroskop, um die Genauigkeit der Messungen zu gewährleisten. Das Gerät hat eine Kapazität von 12 150 mm Wafern pro Zyklus und ist mit einem universellen Pinzette-fähigen Roboter für zusätzliche Flexibilität ausgestattet. Zusätzlich ist der Roboter mit 12 unabhängigen Elektronenzählkanälen für maximalen Waferdurchsatz ausgestattet. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer Vielzahl von automatisierten Funktionen ausgestattet, einschließlich automatischer Wafer-Verifizierung, Fokuserkennung, Ausrichtung und einer automatischen Rescan-Fähigkeit. Es ist kompatibel mit einer Reihe von Messtechniken, einschließlich Wafer-Schrumpfung, CD/CD-Variation und Focus/NPDF. Die Software des Tools wurde entwickelt, um die Prozesskontrolle zu verbessern und die Time-to-Market zu reduzieren, indem Prozessoptimierungstools integriert und ein Echtzeit-Feedback zur Prozesseffektivität bereitgestellt wird. Darüber hinaus ist das Asset hochflexibel konzipiert, bietet eine Reihe von 3D-Bildgebungsoptionen und integriert mit einer Vielzahl anderer Softwarepakete. Insgesamt bietet TENCOR OP 2600 eine Komplettlösung für Wafertests und Messtechnik. Seine benutzerfreundliche, anpassbare Software bietet eine einfach einzurichtende Plattform, während sein fortschrittliches Erkennungsmodell und sein breites Spektrum an automatisierten Funktionen präzise und zuverlässige Ergebnisse gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor