Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #293649607 zu verkaufen

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die eine schnelle Prüfung von Automobilen und Geräten ermöglicht. Es wurde entwickelt, um Fehler in einer Vielzahl von Halbleiterscheiben zu erkennen und zu identifizieren sowie detailliert zu messen und zu analysieren. Das System besteht aus einem optischen Objektiv-Array, einer Dual-Fourier-Analyse und einer digitalen Bildkorrelationstechnologie, die eine schnellere und genauere Inspektion von Wafern auf nanoskaliger Ebene ermöglicht. Das optische Linsen-Array der KLA OP 2600 ist optimiert, um dünne Schichten zu bearbeiten und zu messen, so dünn wie 0,5 bis 20 Mikrometer Dicke. Dadurch wird sichergestellt, dass auch kleinste Mängel mit außergewöhnlicher Genauigkeit erkannt werden. Die Dual-Fourier-Analyse und die digitale Bildkorrelationstechnologie des Geräts ermöglichen dann Messungen sowohl in Echtzeit als auch im Offline-Modus. Dies bietet Anwendern die Möglichkeit, schnelle und zuverlässige Entscheidungen über Waferleistung und Qualität zu treffen. Die fortschrittliche Bildgebungsfähigkeit der Maschine bietet Anwendern auch die Möglichkeit, eine genaue Bewertung der Gesamtgerätekonformität zu erstellen. Dies geschieht durch Vergleich von Messergebnissen mit Kundenspezifikationen. TENCOR OP 2600 verfügt auch über automatisierte Qualifikations-/Messaufbauten und kann in nur fünf Minuten einen spezifischen Test einrichten. Dieser automatisierte Testprozess erhöht den Durchsatz, reduziert Zykluszeiten und führt zu Prozessverbesserungen. Das Tool verfügt auch über einen proprietären Waferdurchsatz-Berechnungsalgorithmus, der die automatische Schätzung von Wafer-Zykluszeit, Druckzahl und Substraten ermöglicht. Dies trägt dazu bei, ordnungsgemäße Produktionsprozesse sicherzustellen und Abfälle durch Fehler zu reduzieren. THERMA-WAVE OP 2600 kommt auch mit automatischen Fehlererkennungs- und Klassifizierungsfunktionen, die dazu beitragen, die Zeit für die erste Fehleruntersuchung zu reduzieren und falsche Positive zu minimieren. Dies hilft auch, die visuelle Inspektion zu beschleunigen und Wafer genauer zu diagnostizieren. Insgesamt ist OP 2600 eine leistungsfähige Wafer-Test- und Messtechnik-Komponente, die hochauflösende, hochgenaue Messungen und Analyse von Dünnschichtgeräten bietet. Die optische Linsenanordnung, die Dual-Fourier-Analyse und die digitale Bildkorrelationstechnologie ermöglichen eine schnelle, zuverlässige Inspektion und Messung hochauflösender Details. Darüber hinaus tragen die automatisierten Testfunktionen dazu bei, den Durchsatz zu erhöhen, die Zykluszeiten zu reduzieren und die Gesamtprozessleistung zu verbessern.