Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #293820412 zu verkaufen

ID: 293820412
Wafergröße: 6"-8"
Weinlese: 1997
Film thickness measurement system, 6"-8" Measurement tool: BPR, BPE, VAS SBC Board, CPU Pentium III 600 MHz COGNEX 3000 Vision system Robot ESC200 Controller 1997 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 wafer testing and metrology equipment ist eine integrierte Messtechnik-Plattform zur Analyse und Charakterisierung von Wafern. Es besteht aus zwei Hauptkomponenten - dem Metrologie-Teilsystem und dem Test-Teilsystem. Das Metrologie-Subsystem verfügt über ein CCD-Stereomikroskop zum Sammeln und Analysieren von Matrizenbildern. Es ist mit einem automatisierten Fokussiersystem, einer automatischen Kalibriereinheit und einer Bildverarbeitungsmaschine ausgestattet. Die CCD-Ausgabe wird mithilfe fortgeschrittener Mustererkennungsalgorithmen analysiert, um die Stempelhöhe, die Spaltstelle, die Stempelneigung und andere verwandte Parameter zu bestimmen. Das Prüfsubsystem besteht aus einem Wärmemessgerät und einer automatisierten Lecksuche. Das Wärmemessmodell misst die Wärmeleitfähigkeit des Wafers, indem ein IR-Strahl niedriger Leistung an den Wafer gesendet und die emittierte Wärmeenergie gemessen wird. Die automatisierte Lecksuche ist so konzipiert, dass Risse oder andere Fehler auf der Waferoberfläche erkannt werden. Es verwendet Hochgeschwindigkeits-Scanlaser, um die gesamte Oberfläche des Wafers zu scannen und Fehler zu erkennen. Insgesamt ist das Wafer-Prüf- und Messsystem KLA OP 2600 eine leistungsfähige und zuverlässige Plattform für die Waferanalyse und -charakterisierung. Es bietet eine hohe Genauigkeit und Präzision durch seine automatisierten Fokus- und Kalibriersysteme, Mustererkennungsalgorithmen sowie Wärme- und automatisierte Lecksuchsysteme. Durch diese Plattform sind die Betreiber in der Lage, verschiedene Wafertypen mit einer einzigen integrierten Metrologie-Einheit schnell und präzise zu analysieren und zu charakterisieren.
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