Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9130299 zu verkaufen

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 ist eine führende Wafer-Prüf- und Messtechnik, die zur Messung, Analyse und Bewertung von Halbleiterscheiben auf elektrische, physikalische und Fertigungsfehler verwendet wird. Das System unterstützt eine breite Palette von Forschungs- und Entwicklungsarbeiten, einschließlich fortschrittlicher Lithographie und statistischer Prozesskontrolle. KLA OP 2600 ist eine vollautomatisierte optische Messtechnik-Plattform, die sowohl 2D- als auch 3D-Strukturen messen kann. Es bietet eine überlegene messtechnische Genauigkeit, Geschwindigkeit und Zuverlässigkeit gegenüber früheren Modellen und ermöglicht eine höhere Messgenauigkeit und Zuverlässigkeit als je zuvor. TENCOR OP 2600 Maschine bietet fortschrittliche Masken- und Retikle-Leistungsüberwachung und ist in der Lage, sowohl dichte als auch isolierte Funktionen schnell und genau zu messen. Es bietet auch integrierte Submikronoblatenschaufähigkeiten sicherzustellen, dass fast vollkommene Oblaten erzeugt werden. Das Werkzeug kann Linienbreiten bis zu 0,03 Mikron mit beispielloser Geschwindigkeit und Genauigkeit messen. Darüber hinaus kann THERMA-WAVE OP 2600 Defekte mit scharfer Kante und Linienbreite mit überlegener Geschwindigkeit und Genauigkeit erkennen. Erweiterte Werkzeugfunktionen ermöglichen eine vollständige Wafer-Bildanalyse, die eine schnellere und genauere Analyse verschiedener Masken und Retikel ermöglicht. Die Anlage bietet auch integrierte Optical Frequency Domain Reflectometry (OFDR), die die Messung von physikalischen und elektrischen Defekten ermöglicht. Das OFDR-Modul von OP 2600 kann Defekte bis zu einer Auflösung von 0,2 Mikrometern erkennen und ermöglicht die Identifizierung und Quantifizierung von Mikrometer-Defekten. Darüber hinaus verfügt das Modell über erweiterte Funktionen wie 2D- und 3D-Zuordnung, automatisierte Kanten- und Mustererkennung sowie CAD-ähnliche Bearbeitung für die Datenanalyse. KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 Ausrüstung ist in der Lage, eine Reihe von Wafer-Level Metrologie Aufgaben, wie Line-Width Metrologie, Overlay Metrologie, Fehlererkennung und Inspektion und 3D-Charakterisierung. Dieses Leistungsniveau ist besonders in Produktionsumgebungen hilfreich, in denen eine hohe Genauigkeit erforderlich ist. Das System wurde entwickelt, um die statistische Prozesskontrolle zu unterstützen und die vollständige Rückverfolgbarkeit jedes Wafers zu ermöglichen. Diese hohe Genauigkeit und der hohe Durchsatz bieten einen beispiellosen Vorteil für die Halbleiterindustrie. Insgesamt ist KLA OP 2600 eine fortschrittliche Wafer-Prüf- und Messtechnik-Maschine, die beispiellose Geschwindigkeit und Genauigkeit für die Messung, Analyse und Auswertung von Halbleiterscheiben bietet. Die erweiterten Werkzeugfähigkeit, das flexible Lösungsset und die exzellente messtechnische Genauigkeit des Tools bieten eine überlegene Lösung für alles, von Forschung und Entwicklung bis hin zu Produktionsumgebungen.