Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9212477 zu verkaufen
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ID: 9212477
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
Film thickness measurement system, 8"
1995 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die umfassende messtechnische Messungen in einem einzigen integrierten Paket liefert. Dieses System nutzt Röntgen-, optische und laserbasierte Technologien zur genauen Inspektion und Messung von Halbleiterscheiben in verschiedenen Fertigungsstufen. Die KLA OP 2600 verfügt über eine große automatisierte Messkammer, die eine stabile Messumgebung für präzise und reproduzierbare Messergebnisse bietet. Diese Einheit verwendet lasergesteuerte optische Projektion zum Lesen und Vergleichen der Parameter und detaillierten Dimensionen, die kritische Merkmale und Photomasken auf dem Wafer definieren. Darüber hinaus nutzt diese Maschine die Röntgeninspektionstechnologie, um hochauflösende Bilder von Waferoberflächen zur detaillierten Beurteilung von Eigenschaften wie Oberflächengüte, Form, Merkmalsmaß und Oberflächenreinheit zu erhalten. Dieses Gerät eignet sich hervorragend für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen, da es schnelle und umfassende Chipmess- und Prüfmöglichkeiten für eine breite Palette von Wafergrößen bietet. Dieses Werkzeug ist so konzipiert, dass es durch die Zugabe von Laser-Rastermikroskop, Rasterelektronenmikroskop und Atomkraft-Mikroskop-Fähigkeiten leicht erweiterbar ist. Die integrierten Softwarefunktionen umfassen Datenverarbeitung, Fehlererkennung, Messung und Vergleich. TENCOR OP 2600 verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI), mit der Sie schnell und einfach 3D-Bilder der inspizierten Wafer erzeugen können. Die GUI bietet auch Zugang zu Analysen und Datenausgaben, um die Qualitätskontrolle und Forschungsaktivitäten zu unterstützen. Diese Anlage erfüllt die höchsten ISO-Standards in der Wafer-Prüf- und Messtechnik-Industrie und richtet sich an Kunden, die automatisierte und präzise messtechnische Messungen durchführen möchten. THERMA-WAVE OP 2600 ist seit Jahrzehnten der Maßstab für die Qualitätskontrolle in einer Reihe von Halbleiterherstellungsprozessen. Dieses Modell verwendet die neueste Laser- und Röntgentechnologie, um überlegene messtechnische Präzision und Wiederholbarkeit zu bieten. Mit dieser Ausrüstung können Kunden wiederholbare und zuverlässige Messergebnisse erzielen und gleichzeitig Zeit und Kosten für die Waferinspektion und Messtechnik drastisch reduzieren.
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