Gebraucht KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9250104 zu verkaufen

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik, die zur Charakterisierung von Siliziumscheiben verwendet wird. Dieses System ist für die Messung von Dicke, Brechungsindex, Dielektrizitätskonstante und anderen Parametern eines einzelnen Wafers ausgelegt. Es ist in der Lage, 150mm und 200mm Wafer in einem einzigen Prozess zu messen, die Zykluszeit zu reduzieren und Wartungsausfallzeiten zu reduzieren. KLA OP 2600 unterstützt eine Vielzahl von Messungen einschließlich Brechungsindex, Dicke, Seitenwand, Gleichmäßigkeit der Dicke, Dielektrizitätskonstante, Haftfolie, Barriereschicht-Gleichmäßigkeit, Ebenheit, Substratqualität, Reflektivität und Rauheit. Diese Messungen werden über variable Frequenzen und Winkel durchgeführt, so dass ein breiterer Bereich von Charakterisierungsergebnissen möglich ist. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer Vielzahl von automatisierten Kompensationstechniken für konstante Wiederholbarkeit und Präzision ausgestattet. Die Maschine ist in der Lage, bis zu vier Wafer gleichzeitig zu verarbeiten, wobei die Temperaturen zwischen Raumtemperatur und 500 ° C liegen. Es umfasst eine beheizte Stufe, die die Messung von Temperaturen bis 500 ° C ermöglicht. Das Tool ermöglicht auch Echtzeit-Datenerfassungs-, Analyse-, Diagnose- und Steuerungsfunktionen und ermöglicht so einen effizienteren und optimierten Prozess. Dazu gehört auch die Laserinterferometrie, ein präziser Ansatz zur Messung der optischen Dicke des Wafers. TENCOR OP 2600 enthält Fehlerprüfwerkzeuge und bietet anpassbare Vor- und Nachverarbeitungssoftware, um die Produktionszeiten zu beschleunigen. Das Modell ist mit einer automatisierten Kalibrierstation ausgestattet, die Genauigkeit und Wiederholbarkeit gewährleistet und manuelle Kalibrierungsschritte eliminiert. Darüber hinaus umfasst das Gerät sowohl eine Bedienerkonsole als auch einen Lichtbalkendiagramm, um dem Benutzer Feedback zu geben. Insgesamt ist THERMA-WAVE OP 2600 ein hochfähiges Wafer-Prüf- und Messtechnik-System, mit dem Fachleute eine Vielzahl von Parametern auf einem einzelnen Wafer schnell und genau messen können. Seine Vielseitigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit machen es zu einem wertvollen und zuverlässigen Werkzeug für die Charakterisierung von Silizium-Wafern.